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J-GLOBAL ID：201702241508664466   整理番号：17A1088335

金属酸化物薄膜トランジスタにおける,ナノ粒子形成と凝集に対するフッ素および酸素プラズマの影響

Fluorine and oxygen plasma influence on nanoparticle formation and aggregation in metal oxide thin film transistors

著者 (3件)： MADZIK Mateusz (Masdar Inst. Sci. and Technol., Abu Dhabi, ARE) ,  ELAMURUGU Elangovan (Masdar Inst. Sci. and Technol., Abu Dhabi, ARE) ,  VIEGAS Jaime (Masdar Inst. Sci. and Technol., Abu Dhabi, ARE)
資料名： Proceedings of SPIE  (Proceedings of SPIE)
巻： 10105  ページ： 1010513.1-1010513.6  発行年： 2017年 
JST資料番号： D0943A  ISSN： 0277-786X  CODEN： PSISDG  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 本研究では,パターニングのある場合とない場合について,原子層堆積法(ALD)で堆積したHfO₂上にモリブデン添加酸化インジウムをスパッタ成膜し,塩素系RIE処理でエッチングする。フォトレジストを酸素プラズマアッシングで取除くときにナノ粒子形成が見られる。酸素プラズマ中でのレジスト剥離に先立って,CH₄/Arプラズマ中でのHfO₂上のエッチングにより,ナノ粒子の枝分かれ構造への凝集が促進される。酸素プラズマ処理をアセトンのウェット化学処理に置換えると,そのようなナノ構造は生じない。プラズマ剥離後のフォトレジストの非常に細かい残渣(光学顕微鏡や走査型電子顕微鏡で見えない)がナノ粒子生成の原因との結論となる。金属酸化物薄膜トランジスタ(TFT)に対する,ナノ粒子の電子輸送効果を理解するために,TFTを作製し電気特性を評価した。

シソーラス用語： *薄膜トランジスタ ,  化学蒸着 ,  酸化ハフニウム ,  蒸着膜 ,  *酸化インジウム ,  *添加物効果 ,  モリブデン ,  *スパッタ蒸着 ,  RIE【エッチング】 ,  *フォトレジスト ,  プラズマ ,  *灰化 ,  *ナノ粒子 ,  凝集 ,  アルゴン ,  混合気体 ,  *枝分れ ,  剥離 ,  エッチング ,  アルカン
準シソーラス用語： 原子層堆積 ,  酸素プラズマ

分類 (1件)： トランジスタ  (NC03070N)

物質索引 (1件)： メタン

タイトルに関連する用語 (6件)： 金属酸化物薄膜 ,  トランジスタ ,  粒子形成 ,  凝集 ,  フッ素 ,  酸素プラズマ