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J-GLOBAL ID：201702241771809802   整理番号：17A0543067

下地層利用によるSi基板上Nd-Fe-B系厚膜磁石の磁気特性改善

著者 (7件)： 山口雄太 (長崎大) ,  清水大 (長崎大) ,  竹馬雄 (長崎大) ,  山下昂洋 (長崎大) ,  柳井武志 (長崎大) ,  中野正基 (長崎大) ,  福永博俊 (長崎大)
資料名： 電気学会全国大会講演論文集(CD-ROM)  (Annual Meeting Record, I.E.E. Japan (CD-ROM))
巻： 2017  ページ： ROMBUNNO.2-102  発行年： 2017年03月05日 
JST資料番号： S0653B  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： 下層 ,  ウエハ【IC】 ,  鉄合金 ,  ネオジム含有合金 ,  ホウ素添加合金 ,  厚膜 ,  *永久磁石 ,  磁気ヒステリシス

分類 (1件)： 電磁石  (NA05080G)

タイトルに関連する用語 (7件)： 下地層 ,  Si基板 ,  Nd ,  Fe ,  厚膜磁石 ,  磁気 ,  特性改善