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J-GLOBAL ID：201702243061321224   整理番号：17A1459897

CoPt/TiN二層膜におけるCoPtの秩序化変態に及ぼす窒素取込の影響【Powered by NICT】

Effect of nitrogen incorporation on the ordering transformation of CoPt in CoPt/TiN bilayer films

著者 (4件)： Caesario Petrus (School of Materials and Chemical Technology, Tokyo Institute of Technology, 2-12-1, Ookayama, Meguro-ku, Tokyo 152-8552, Japan) ,  Harumoto Takashi (School of Materials and Chemical Technology, Tokyo Institute of Technology, 2-12-1, Ookayama, Meguro-ku, Tokyo 152-8552, Japan) ,  Nakamura Yoshio (School of Materials and Chemical Technology, Tokyo Institute of Technology, 2-12-1, Ookayama, Meguro-ku, Tokyo 152-8552, Japan) ,  Shi Ji (School of Materials and Chemical Technology, Tokyo Institute of Technology, 2-12-1, Ookayama, Meguro-ku, Tokyo 152-8552, Japan)
資料名： Journal of Magnetism and Magnetic Materials  (Journal of Magnetism and Magnetic Materials)
巻： 443  ページ： 22-28  発行年： 2017年 
JST資料番号： H0644A  ISSN： 0304-8853  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： /TiNシード層のないMgO基板上にdcマグネトロンスパッタリングで蒸着したCoPt薄膜のL1_0規則化変態に及ぼす窒素混入の影響を調べた。TiNシード層がない場合,CoPt膜は引張応力を受ける,垂直磁気異方性(PMA)はN_2ガス流量比とともに減少した。これは引張応力の分解,L1_0CoPtの秩序化転移に有益であることが証明されているによるものであった。これに反して,TiNシード層上にスパッタしたとき,CoPt膜は圧縮応力を受け,PMAはN_2ガス流量比と共に増加した。PMAの増加は平衡空孔濃度の増加,これはアニーリング中のCoとPt原子の拡散を促進するにも起因していた。石英基板上では,11kOeの最大垂直保磁力は700°Cでのポストアニーリング後に50%の部分N_2ガス流量比をもつCoPt/TiN二層膜で得られた。堆積中に部分的に流れる窒素により,秩序化温度の200°C還元も得られた。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： *窒素 ,  圧縮応力 ,  保磁力 ,  引張応力 ,  焼なまし ,  酸化マグネシウム ,  垂直磁気異方性 ,  *白金 ,  マグネトロンスパッタリング ,  磁性薄膜
準シソーラス用語： ポストアニーリング ,  ガス流量 ,  シード層 ,  *二重層 ,  *窒化チタン , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (4件)： L1_0秩序化 ,  CoPt ,  垂直磁気異方性 ,  磁性薄膜

分類 (1件)： 金属結晶の磁性  (BM06040T)

タイトルに関連する用語 (6件)： TiN ,  二層膜 ,  秩序化 ,  変態 ,  窒素 ,  取込