文献

J-GLOBAL ID：201702243731350586   整理番号：17A1090443

生産環境における間接オーバレイ法の詳細な分析と応用

In-depth analysis of indirect overlay method and application in production environment

著者 (5件)： HOFMANN Detlef (Infineon Technol. Dresden, GmbH, Dresden, DEU) ,  RABE Frank (Infineon Technol. Dresden, GmbH, Dresden, DEU) ,  BUHL Stefan (Qoniac GmbH, Dresden, DEU) ,  KIM Wan-Soo (Qoniac GmbH, Dresden, DEU) ,  HABETS Boris (Qoniac GmbH, Dresden, DEU)
資料名： Proceedings of SPIE  (Proceedings of SPIE)
巻： 10145  号： Pt.1  ページ： 101450E.1-101450E.21  発行年： 2017年 
JST資料番号： D0943A  ISSN： 0277-786X  CODEN： PSISDG  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： オーバレイ測定装置のスループットは限られるので,不必要な測定を避けることが望ましい。そこで,直接オーバレイ測定が存在しない二種類の層の間のオーバレイ関係を計算するための方法を開発した。間接オーバレイの計算には,ベクトルに基づく方法とモデルに基づく方法を用い,それぞれの方法を説明した。三種類の高密度測定ウエハに対して,両方法を比較した。間接オーバーレイの場合,幾つかの点を考慮する必要がある。その中の一つは関与する層に対するサンプリング計画である。オーバレイマークデータを如何に組合せるかは難しい問題であるが,幾つかの方法を示した。最後に,二つの大規模データ集合に対して間接オーバレイ計算を行った。

シソーラス用語： *重合せ ,  *リソグラフィー ,  精度 ,  半導体プロセス ,  モデル ,  ウエハ【IC】 ,  *計測 ,  大量生産 ,  スループット ,  バーチャル計測
準シソーラス用語： オーバレイ精度 ,  *オーバレイ測定 ,  マイクロリソグラフィー ,  仮想測定 ,  *間接オーバレイ ,  内挿オーバレイ

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (5件)： 生産環境 ,  間接 ,  オーバレイ ,  分析 ,  応用