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J-GLOBAL ID：201702243793101210   整理番号：17A0551411

空気中における窒化チタンナノ薄膜の温度効果

Temperature effect on titanium nitride nanometer thin film in air

著者 (7件)： CEN Z H (Agency for Sci., Technol. and Res. (A-STAR), Singapore, SGP) ,  XU B X (Agency for Sci., Technol. and Res. (A-STAR), Singapore, SGP) ,  HU J F (Agency for Sci., Technol. and Res. (A-STAR), Singapore, SGP) ,  JI R (Agency for Sci., Technol. and Res. (A-STAR), Singapore, SGP) ,  TOH Y T (Agency for Sci., Technol. and Res. (A-STAR), Singapore, SGP) ,  YE K D (Agency for Sci., Technol. and Res. (A-STAR), Singapore, SGP) ,  HU Y F (Western Digital Corp., CA, USA)
資料名： Journal of Physics. D. Applied Physics  (Journal of Physics. D. Applied Physics)
巻： 50  号： 7  ページ： 075105,1-6  発行年： 2017年02月22日 
JST資料番号： B0092B  ISSN： 0022-3727  CODEN： JPAPBE  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 本稿では,周囲温度の温度制御ステージを備えた分光偏光解析により,異なる温度でのTiN薄膜の光学特性を測定し,温度による光学定数の変化について報告した。NiTa薄層をSi基板上に堆積した後,真空中で基板加熱し,次に,TiNターゲットをDCスパッタリングすることにより,TiN薄膜を堆積した。分光偏光解析により,TiN薄膜の光学定数を測定した。取得した光学定数を用いて,TiNプラズモン性能に対する温度の影響を理解するために,TiNに基づく熱支援磁気記録応用について有限差分時間領域シミュレーションを行った。また,偏光解析測定により,温度上昇に伴うTiN薄膜の膜厚変動を検討し,TiN薄膜の熱膨張係数を求めた。その結果,著者等は,膜の酸化が,TiN薄膜のプラズモン特性に損傷を与え,酸化誘起体積増加は,デバイスの故障に繋がる可能性のあることを示した。また,安定したプラズモンの適用のためには,TiN薄膜の基づくデバイスは200°C以下で動作する必要性を示唆した。

シソーラス用語： *チタン化合物 ,  *窒化物 ,  *ナノ構造 ,  *超薄膜 ,  *温度依存性 ,  温度制御 ,  エリプソメータ ,  光学的性質 ,  光学定数 ,  スパッタリング ,  プラズモン ,  熱磁気記録 ,  有限差分時間領域法 ,  偏光解析法 ,  計算機シミュレーション ,  熱膨張係数 ,  酸化 ,  *ナノシート
準シソーラス用語： *窒化チタン ,  *ナノ薄膜 ,  *温度効果 ,  光学特性 ,  DCスパッタリング ,  熱支援磁気記録 ,  偏光解析 ,  分光偏光解析 ,  コンピュータシミュレーション

分類 (4件)： その他の無機化合物の薄膜  (BK14060A) ,  非金属のその他の熱的性質  (BL05040J) ,  光物性一般  (BM08010A) ,  固体プラズマ  (BM02160W)

タイトルに関連する用語 (4件)： 空気中 ,  窒化チタン ,  ナノ薄膜 ,  温度効果