文献

J-GLOBAL ID：201702243842698742   整理番号：17A1205061

アークイオンめっき法とマグネトロンスパッタリングにより交互に堆積させたTiN多層コーティングの残留応力

Residual Stress of TiN Multilayer Coatings Alternately Deposited by Arc Ion Plating and Magnetron Sputtering

著者 (4件)： MEI Haijuan (Shenzhen Polytechnic, Shenzhen, CHN) ,  MEI Haijuan (Guangdong Univ. Technol., Guangzhou, CHN) ,  ZHAO Shengsheng (Shenzhen Polytechnic, Shenzhen, CHN) ,  WANG Qimin (Guangdong Univ. Technol., Guangzhou, CHN)
資料名： Nanoscience and Nanotechnology Letters  (Nanoscience and Nanotechnology Letters)
巻： 9  号： 6  ページ： 885-891  発行年： 2017年06月 
JST資料番号： W2373A  ISSN： 1941-4900  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 本研究では,異なる層間厚みを持つTiN多層コーティングをアークイオンめっき法(AIP)とマグネトロンスパッタリング(MS)のハイブリッド技術を用いた堆積法により行い,多層コーティングの成分,構造,残留応力,および付着強度について調べた。その結果,TiNコーティングは面心立方構造を持つ(111)方向へ強く配向していた。層間厚みが0nmから240nmに増加すると,粒径は12.4nmがら9.7nmに減少し,硬度は24GPaから21GPaに減少した。一方,付着強度は,層間厚み0nmにおける53.4Nから増加し,厚み165nmで最大値64.2Nを示した。また,残留応力は表面から全厚みの約20%の深さで最大になった。

シソーラス用語： *チタン化合物 ,  *窒化物 ,  多層膜 ,  被覆 ,  マグネトロンスパッタリング ,  *スパッタ蒸着 ,  *イオンめっき ,  *残留応力 ,  *付着強さ ,  結晶方位 ,  *複合膜 ,  粒径 ,  *膜厚
準シソーラス用語： 窒化チタン ,  アークイオンめっき ,  ハイブリッド技術 ,  *交互多層膜

分類 (1件)： その他の無機化合物の薄膜  (BK14060A)

タイトルに関連する用語 (7件)： アーク ,  イオンめっき法 ,  マグネトロンスパッタリング ,  堆積 ,  TiN ,  多層コーティング ,  残留応力