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J-GLOBAL ID：201702243969815910   整理番号：17A1456425

計算リソグラフィーを用いた非球面レンズ設計【Powered by NICT】

Aspherical Lens Design Using Computational Lithography

著者 (3件)： Murakami Seiro (Department of Mechano-Micro Engineering, Tokyo Institute of Technology 4259 Nagatsuta, Midori-ku, Yokohama 226-8503, Japan) ,  Yanagida Yasuko (Laboratory for Interdisciplinary Research Laboratory and Technology (FIRST), Tokyo Institute of Technology, 4259 Nagatsuta, Midori-ku, Yokohama 226-8503, Japan) ,  Hatsuzawa Takeshi (Laboratory for Interdisciplinary Research Laboratory and Technology (FIRST), Tokyo Institute of Technology, 4259 Nagatsuta, Midori-ku, Yokohama 226-8503, Japan)
資料名： Precision Engineering  (Precision Engineering)
巻： 50  ページ： 372-379  発行年： 2017年 
JST資料番号： A0734B  ISSN： 0141-6359  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 光リソグラフィーは,光波長のスケールでその能力のために三次元(3D)パターンを作製するためにしばしば適用される。露光装置,レーザ描画装置,光学投影システムを開発した装置は,露光ツールとして使用されている。集束能力は≧50μmのステップ高さの曝露は,通常,大きな焦点深度をもつ光投影システムを用いて達成されるを可能にする必要がある。最近,投影レンズは調整可能な開口数を用いた可変ステップ高さ,100μm程度の高いステップ高さを有するマイクロレンズアレイ(MLA)を作製したを生成できることを開発した。これらMLAは様々な分野ではほとんど凝縮レンズとしてのみ使用されている。しかし,広い応用は光学収差低減の実現が待たれる。非球面レンズの導入は,この方向での主要な段階であるが,非球面レンズはガラスで作られた光学素子の非球面を加工・研磨の限界のために製造することは困難である。光リソグラフィーを用いた3Dのパターンの作製が,その光学密度分布は露光及び現像の後に3Dプロファイルに対応するフォトマスクを含んでいる。所望の3D形状に対応する密度分布はマイクロドットマスクパターンのドット密度を制御するために計算機を用いて達成できた。本研究では,計算機リソグラフィーを用いたRayleigh基準を満たすことを低収差非球面MLAの設計法を提示した。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： フォトリソグラフィー ,  フォトマスク ,  *レンズ ,  露光 ,  開口数 ,  三次元 ,  収差 ,  密度分布 ,  ガラス ,  焦点深度 ,  *非球面レンズ ,  光学素子 ,  *非球面 ,  マイクロレンズアレイ ,  マスク

著者キーワード (5件)： 3Dパターン形成 ,  投影光学系 ,  マイクロレンズアレイ ,  非球面レンズの設計 ,  計算リソグラフィー

分類 (5件)： 光学器械要素とその材料  (QF05020K) ,  長さ,面積,断面,体積,容積,角度の計測法・機器  (AD05020O) ,  計測学一般  (AD01000Q) ,  研削  (QC03000R) ,  光学情報処理  (BD03060T)

タイトルに関連する用語 (3件)： 計算リソグラフィー ,  非球面レンズ ,  設計