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J-GLOBAL ID：201702244750562310   整理番号：17A0366221

ゾル-ゲル誘導HfO_2薄膜に及ぼすUV/オゾンプラズマ処理の効果【Powered by NICT】

Effect of UV/ozone plasma treatment on sol-gel-derived HfO₂ thin films

著者 (3件)： Kumar Manoj (Department of Mechanical Engineering, Konkuk University, 120 Neungdong-ro, Gwangjin-gu, Seoul 143-701, South Korea) ,  Jeong Hakyung (Department of Mechanical Engineering, Konkuk University, 120 Neungdong-ro, Gwangjin-gu, Seoul 143-701, South Korea) ,  Lee Dongjin (Department of Mechanical Engineering, Konkuk University, 120 Neungdong-ro, Gwangjin-gu, Seoul 143-701, South Korea)
資料名： Ceramics International  (Ceramics International)
巻： 43  号： 1 PB  ページ： 1174-1179  発行年： 2017年 
JST資料番号： H0705A  ISSN： 0272-8842  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 本研究では,酸化インジウムスズ(ITO)基板上にゾル-ゲル誘導HfO_2薄膜の作製と特性評価について報告した。膜は空気と紫外(UV)/オゾンプラズマ環境で乾燥され,最終的に300から500°Cまでの範囲の種々の温度でアニールした。膜の結晶化は300°Cの低いアニーリング温度でも起こることを認めた。走査電子顕微鏡の結果は,空気環境中で乾燥した膜は均一ではなかった,結晶粒は互いに分離することが観察されたことを示した。対照的に,UV/オゾンプラズマ処理した薄膜は滑らかで均一な表面を示した。大きさの3桁以上の漏れ電流密度の減少はUV/オゾンプラズマ処理した膜で観察された。ほぼ99%の高い透過率は,空気とUV/オゾンプラズマ環境の両方で乾燥した膜で観察された。空気乾燥膜のナノインデンテーションの結果は,特定の深さ12.74および19.68nmにおける荷重-変位曲線のポップイン事象を明らかにした。対照的に,UV/オゾンプラズマ処理した膜で観察されたロードまたはアンロード断面に沿ったいかなる不連続も持たず,滑らかで規則的な曲線。得られた結果は,UV/オゾンプラズマ処理は,ITO基板上にHfO_2の品質を改善するのに有望な方法であることが証明されたことを示した。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： キャラクタリゼーション ,  走査電子顕微鏡 ,  *オゾン ,  *ゲル ,  透過率 ,  *プラズマ処理 ,  ナノインデンテーション ,  *薄膜 ,  不連続性 ,  結晶粒 ,  酸化インジウムスズ
準シソーラス用語： ポップイン ,  荷重-変位曲線 ,  漏れ電流密度 ,  アニーリング温度 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (4件)： ゾル-ゲル ,  HfO_2薄膜 ,  UV/オゾンプラズマ処理 ,  透明誘電体

分類 (1件)： 酸化物薄膜  (BK14050P)

タイトルに関連する用語 (5件)： ゾル-ゲル ,  誘導 ,  薄膜 ,  オゾン ,  プラズマ処理