NAKATA Yuki について
Tohoku Univ., Sendai, JPN について
SUGAWARA Katsuaki について
Tohoku Univ., Sendai, JPN について
SHIMIZU Ryota について
Tohoku Univ., Sendai, JPN について
SHIMIZU Ryota について
Tokyo Inst. of Technol., Tokyo, JPN について
OKADA Yoshinori について
Tohoku Univ., Sendai, JPN について
HAN Patrick について
Tohoku Univ., Sendai, JPN について
HITOSUGI Taro について
Tohoku Univ., Sendai, JPN について
HITOSUGI Taro について
Tokyo Inst. of Technol., Tokyo, JPN について
UENO Keiji について
Saitama Univ., Saitama, JPN について
SATO Takafumi について
Tohoku Univ., Sendai, JPN について
TAKAHASHI Takashi について
Tohoku Univ., Sendai, JPN について
NPG Asia Materials (Web) について
セレン化ニオブ について
半導体薄膜 について
基板 について
グラフェン について
多層 について
MBE成長 について
八面体 について
電子状態 について
エネルギーギャップ について
誘電体 について
Mott転移 について
基板温度 について
電子構造 について
二層グラフェン について
分子ビームエピタクシー について
Mott絶縁体 について
半導体薄膜 について
金属-絶縁体転移 について
半導体結晶の電子構造 について
Mott絶縁体 について
単層 について