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J-GLOBAL ID:201702246034209798   整理番号:17A0579291

Al2O3,TiO2,ZnO,HfO2,ZrO2の原子層堆積を用いる銅の防食

Corrosion Protection of Copper Using Al2O3, TiO2, ZnO, HfO2, and ZrO2 Atomic Layer Deposition
著者 (8件):
資料名:
巻:号:ページ: 4192-4201  発行年: 2017年02月01日 
JST資料番号: W2329A  ISSN: 1944-8244  CODEN: AAMICK  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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ALDを用いて,銅金属上にAl2O3,TiO2,ZnO,HfO2,ZrO2の超薄膜(~50nm)が形成され,それらの防食性能が,電気化学インピーダンス分光法(EIS)と線形掃引ボルタンメトリ(LSV)によって評価された。NaCl水溶液に対する防食性能は,Al2O3とHfO2が,初期防食性能が高く,長期の防食に対しては,HfO2が最も優れている。銅表面の前処理と表面粗さが,防食性能に影響することが示される。
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分類 (3件):
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気相めっき  ,  酸化物薄膜  ,  電極過程 

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