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J-GLOBAL ID：201702246218750210   整理番号：17A0363252

半導体製造系におけるナノスケール特徴のインライン計測法【Powered by NICT】

In-line metrology of nanoscale features in semiconductor manufacturing systems

著者 (3件)： Yao Tsung-Fu (Department of Mechanical Engineering, University of Texas at Austin, United States) ,  Duenner Andrew (Department of Mechanical Engineering, University of Texas at Austin, United States) ,  Cullinan Michael (Department of Mechanical Engineering, University of Texas at Austin, United States)
資料名： Precision Engineering  (Precision Engineering)
巻： 47  ページ： 147-157  発行年： 2017年 
JST資料番号： A0734B  ISSN： 0141-6359  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 品質管理と欠陥モニタリングは,半導体産業にとって非常に重要である。ナノ製造プロセスを有する一列に並んだナノスケール特徴の検査可能にするシステムを提案した。本研究の究極の目標は,真のインラインウエハ検査と品質管理を可能にするためにこの計測システムを統合電流半導体製造プロセスにすることである。本論文で提示したシステムでは,単一MEMSチップに縮小されたことをA FMを用いて,試料の表面を走査した。たわみベース機構が適切に作動したときミリ可動域の上に配置され,ナノメータレベル精度であることMEMSベースのA FMを可能にした。位置決め再現性,A FM安定性と測定分解能などの分野でシステムの性能を本研究で評価した。単一チップA FM(従来のA FM装置より百万倍小さい)の小サイズのために,多点検出のための良好な候補である。全体的に見て,本論文で提示したシステムは,検査時間を大幅に短縮すると負荷,アプローチA FMに必要な段取り時間を劇的に減少させると,半導体製造システム可能のナノスケール特徴のインライン検査を試料を測定した。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： *MEMS ,  生産工程 ,  位置決め ,  計測システム ,  たわみ ,  品質管理 ,  再現性 ,  半導体工業 ,  分解能 ,  半導体プロセス
準シソーラス用語： 段取時間 ,  検査時間 ,  MEMSチップ ,  *ナノスケール ,  *半導体製造 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (6件)： 原子間力顕微鏡観察 ,  MEMS ,  ナノ製造 ,  ナノ計測工学 ,  インライン検査 ,  ナノ位置決め

分類 (1件)： 長さ,面積,断面,体積,容積,角度の計測法・機器  (AD05020O)

タイトルに関連する用語 (4件)： 半導体製造 ,  ナノスケール ,  インライン ,  計測法