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J-GLOBAL ID：201702246841236285   整理番号：17A1764202

空間的に閉じ込められた原子層堆積およびその場でのUHV表面分析のためのマイクロリアクターの設計と特性評価

Design and characterization of a microreactor for spatially confined atomic layer deposition and in situ UHV surface analysis

著者 (5件)： Chen Jiun-Ruey (School of Chemical and Biomolecular Engineering Cornell University, Ithaca, New York 14853) ,  Zhang Wenyu (School of Chemical and Biomolecular Engineering Cornell University, Ithaca, New York 14853) ,  Nahm Rambert K. (School of Chemical and Biomolecular Engineering Cornell University, Ithaca, New York 14853) ,  DiFeo Michael A. (School of Chemical and Biomolecular Engineering Cornell University, Ithaca, New York 14853) ,  Engstrom James R. (School of Chemical and Biomolecular Engineering Cornell University, Ithaca, New York 14853)
資料名： Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films  (Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films)
巻： 35  号： 6  ページ： 061604-061604-10  発行年： 2017年11月 
JST資料番号： C0789B  ISSN： 0734-2101  CODEN： JVTAD6  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 本研究では,大気開放なしにその後のin situ表面特性評価のために,超高真空(UHV)分析チャンバに直接結合されている,低~中真空での原子層堆積(ALD)のような気相反応を可能にする,マイクロリアクター用プローブの設計と特徴付けを報告する。この大気開放を避けることは,特に成長の初期段階で,超薄型フィルムの成長を完全に理解する上で不可欠である。マイクロリアクタープローブと基板表面との間に正確に規定されたギャップを利用することにより,反応物は,「カーテン・ガス」流を利用して,反応ゾーン内に十分に閉じ込められた(総体積~1cm³)。計算流体力学を使用して,流体の流れ,熱輸送,および物質輸送を考慮し,マイクロリアクタおよび周囲のUHVチャンバの定常状態および過渡的動作の両方をシミュレートした。本研究では,Cu基板のI₂(g)蒸気への曝露を考慮し,Zr[N(C₂H₅)(CH₃)]₄とH₂Oを反応物としてZrO₂のALDを18Torrで行うことで,設計の有効性の2つの例を提供した。両方の場合において,著者らは,反応物の中央反応ゾーンへの閉じ込めを達成し,in situ空間分解X線光電子分光法によって確認した。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： *化学蒸着 ,  *表面分析 ,  *超高真空 ,  *マイクロリアクタ ,  計算流体力学 ,  X線光電子分光法 ,  *酸化亜鉛 ,  基板
準シソーラス用語： *原子層堆積 ,  銅基板

分類 (3件)： 酸化物薄膜  (BK14050P) ,  金属の表面構造  (BK15020P) ,  電子分光スペクトル  (BM09060K)

タイトルに関連する用語 (6件)： 原子層堆積 ,  UHV ,  表面分析 ,  マイクロリアクター ,  設計 ,  特性評価