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J-GLOBAL ID:201702248263560384   整理番号:17A0504441

熱イオン真空アークでコートしたGeドープGaN薄膜に与える基板の効果

The substrate effect on Ge doped GaN thin films coated by thermionic vacuum arc
著者 (4件):
資料名:
巻: 28  号:ページ: 1288-1293  発行年: 2017年01月 
JST資料番号: W0003A  ISSN: 0957-4522  CODEN: JMTSAS  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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透明基板にコートしたGeドープGaN薄膜のに与える基板効果を調べた。制作した膜は,加熱していないガラスとPETの上に熱イオン真空アーク技術でを使ってデポジットした。GeドープGaN薄膜の反射率,屈折率,厚さを光干渉計でフィッティングにCauchyモデルを使って測定した。Ge量を増やすと光学バンドギャップエネルギーが大きくなる。PET基板上のGeドープGaN薄膜はガラス基板よりも反射率が10%高い。基板による表面トポロジの差も調べた。
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分類 (2件):
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固体デバイス材料  ,  半導体薄膜 

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