Maxwellソルバを用いたGISAXSパターンからのラメラ格子の詳細な線プロフィルの再構成【Powered by NICT】

Soltwisch Victor; Fernandez Herrero Analia; Pflueger Mika; Haase Anton; Probst Juergen; Laubis Christian; Krumrey Michael; Scholze Frank

文献

J-GLOBAL ID：201702249356565096 整理番号：17A1444461

Maxwellソルバを用いたGISAXSパターンからのラメラ格子の詳細な線プロフィルの再構成【Powered by NICT】

Reconstructing detailed line profiles of lamellar gratings from GISAXS patterns with a Maxwell solver

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巻： 50 号： 5 ページ： 1524-1532 発行年： 2017年
JST資料番号： D0631A ISSN： 0021-8898 CODEN： JACGAR 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：アメリカ合衆国 (USA) 言語：英語 (EN)

横方向周期的ナノ構造は,表面形状を再構成するための回折パターンを用いたすれすれ入射小角X線散乱(GISAXS)を用いて研究した。可視光散乱をモデル化するために,有限要素法によるMaxwell方程式の数値解による近傍場と遠方場の厳密な計算は,十分に確立されている。X線へのこの技法の適用は未だ挑戦的である,入射波長と有限要素サイズの間の不一致によるものであった。この欠点は入射,円錐散乱形状と表面構造の周期性の小角,十分な数値精度で回折効率の厳密な計算を可能にするために,GISAXSの消失する。GISAXSに基づく計測ツールを開発するために,55nmまでの線幅を持つラメラ回折格子は,最新の電子ビームリソグラフィーによって作製した,シリコンにエッチングした。Maxwellソルバと結合したGISAXSの高い表面感度は厚い不均一基板に格子線形状の詳細な再構成を可能にした。再構成幾何学的線形モデルは,GISAXSであるサブナノメータで不確かさのある線の幅のような重要なパラメータを再構成できることを明らかにするMarkov連鎖モンテカルロサンプリング法を適用することによって統計的に検証した。Copyright 2017 Wiley Publishing Japan K.K. All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

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X線回折法

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