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J-GLOBAL ID:201702249407258599   整理番号:17A0982419

脱ハロゲン化後の基板媒介C-CおよびC-Hカップリング

Substrate-Mediated C-C and C-H Coupling after Dehalogenation
著者 (14件):
資料名:
巻: 139  号: 10  ページ: 3669-3675  発行年: 2017年03月15日 
JST資料番号: C0254A  ISSN: 0002-7863  CODEN: JACSAT  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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(R)-(-)-6,6’-ジブロモ-1,1’-ビ-2-ナフトールをモデル化合物として,異なる金属基板上での脱ハロゲン化後の重合反応を調べた。Au(111)上ではC-Cカップリングが進行し,重合反応が続く。一方,Ag(111)上では選択的なC-Hカップリングにより高分子鎖あるいは新しい有機分子の選択的合成を導く。後者の場合,C-Hカップリングと脱ハロゲン化が同時に起こり,フラン環が作られ,その過程で生成した水素原子が,脱ハロゲンで生成した炭素ラジカルに直接移動すると考えられる。STM,XPS,質量分析,およびDFT計算で前記の反応を確認した。
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分類 (1件):
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不均一系触媒反応 
タイトルに関連する用語 (2件):
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