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J-GLOBAL ID：201702249524131360   整理番号：17A0132707

原子層堆積法におけるビスジエチルアミノシランとトリメチルアルミニウムとの付着係数の温度依存性

Temperature dependence of the sticking coefficients of bis-diethyl aminosilane and trimethylaluminum in atomic layer deposition

著者 (5件)： Schwille Matthias C. (Robert Bosch GmbH, 72762 Reutlingen, Germany) ,  Schossler Timo (Robert Bosch GmbH, 72762 Reutlingen, Germany) ,  Schon Florian (Robert Bosch GmbH, 72762 Reutlingen, Germany) ,  Oettel Martin (Institute of Applied Physics, Tuebingen University, 72076 Tuebingen, Germany) ,  Bartha Johann W. (Department of Electrical Engineering and Information Technology, IHM, Technische Universitaet Dresden, 01062 Dresden, Germany)
資料名： Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films  (Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films)
巻： 35  号： 1  ページ： 01B119-01B119-7  発行年： 2017年01月 
JST資料番号： C0789B  ISSN： 0734-2101  CODEN： JVTAD6  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 本稿では,原子層堆積法におけるビスジエチルアミノシラン(BDEAS)とトリメチルアルミニウム(TMA)とについて温度に依存する付着係数(SC)を示す。200~350°Cの基板温度でBDEASとオゾンからのSiO₂,150~300°Cの基板温度でTMAと水からのAl₂O₃を,本誌で発表したものと同様のキャビティ試験用構造の上に堆積した。BDEASのSCはアレニウス依存性を示すが,他方,TMAでは温度に依存するSCは得られない。アレニウスプロットの直線フィットから導かれる活性化エネルギーを,密度汎関数理論計算の文献値と比較した。さらに,基板温度を考慮したBDEASとTMAとの異なる成長様式を文献で提案されている異なる堆積体系にしたがって分類した。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： *化学蒸着 ,  *シラン誘導体 ,  *有機アルミニウム化合物 ,  温度依存性 ,  *付着係数 ,  オゾン ,  *二酸化ケイ素 ,  *酸化アルミニウム ,  水 ,  *密度汎関数法 ,  基板温度
準シソーラス用語： *原子層堆積 ,  密度汎関数

分類 (1件)： 酸化物薄膜  (BK14050P)

物質索引 (2件)： トリメチルアルミニウム ,  ビス(ジエチルアミノ)シラン

タイトルに関連する用語 (4件)： 原子層堆積法 ,  トリメチルアルミニウム ,  付着係数 ,  温度依存性