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J-GLOBAL ID：201702251405179808   整理番号：17A0965758

28nmノードとそれ以降のためのリソグラフィーシステムの画像能力を改善するためのSMO過程の研究【Powered by NICT】

Research of SMO process to improve the imaging capability of lithography system for 28nm node and beyond

著者 (5件)： Haibin Yu (Shanghai Huali Microelectronics Corporation, China) ,  Yueyu Zhang (Shanghai Huali Microelectronics Corporation, China) ,  Binjie Jiang (Shanghai Huali Microelectronics Corporation, China) ,  Shirui Yu (Shanghai Huali Microelectronics Corporation, China) ,  Zhibiao Mao (Shanghai Huali Microelectronics Corporation, China)
資料名： IEEE Conference Proceedings  (IEEE Conference Proceedings)
巻： 2017  号： CSTIC  ページ： 1-3  発行年： 2017年 
JST資料番号： W2441A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 光源-マスク最適化(SMO)溶液は,次世代計算リソグラフィー,集積回路鋳物製造におけるリソグラフィーシステムのイメージング能力を改善するイメージングプロセス窓を拡張するための分解能増強技術(RET)の最も重要な分野の一つとなっている。Mentor Graphics社によって提供されたSMOソフトウェアRET選択に基づいて,著者らは,28nmノードとそれ以降のためのリソグラフィーシステムのイメージング能力を改善するために,SMOプロセスの開発を行ってきた:重要なパターンの選択,プロセスウィンドウ条件などを確認した。本論文では,パラメータPVバンド,MEEF,NILSとDOFは遊離型照明源を評価するために使用し,最終的な照明光源を検証した,これはASML走査装置で発生させた。Copyright 2017 The Institute of Electrical and Electronics Engineers, Inc. All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST【Powered by NICT】

シソーラス用語： 画像処理 ,  照明 ,  *画像 ,  走査装置 ,  集積回路 ,  分解能 ,  光源 ,  鋳物 ,  ソフトウェア ,  最適化
準シソーラス用語： プロセスウィンドウ ,  計算機リソグラフィー , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (6件)： ノード ,  リソグラフィー ,  能力 ,  SMO ,  過程 ,  研究