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J-GLOBAL ID：201702252712406748   整理番号：17A0492947

放射されたイオン数の統計的分布の分析によるサブMeVのC₆₀イオン衝突の二次イオン放出過程のキャラクタリゼーション

Characterization of secondary ion emission processes of sub-MeV C₆₀ ion impacts via analysis of statistical distributions of the emitted ion number

著者 (5件)： Hirata K. (National Metrology Institute of Japan, National Institute of Advanced Industrial Science and Technology (AIST), 1-1-1 Higashi, Tsukuba, Ibaraki 305-8565, Japan) ,  Yamada K. (Takasaki Advanced Radiation Research Institute, National Institutes for Quantum and Radiological Science and Technology (QST), 1233 Watanuki, Takasaki, Gumma 370-1292, Japan) ,  Chiba A. (Takasaki Advanced Radiation Research Institute, National Institutes for Quantum and Radiological Science and Technology (QST), 1233 Watanuki, Takasaki, Gumma 370-1292, Japan) ,  Narumi K. (Takasaki Advanced Radiation Research Institute, National Institutes for Quantum and Radiological Science and Technology (QST), 1233 Watanuki, Takasaki, Gumma 370-1292, Japan) ,  Saitoh Y. (Takasaki Advanced Radiation Research Institute, National Institutes for Quantum and Radiological Science and Technology (QST), 1233 Watanuki, Takasaki, Gumma 370-1292, Japan)
資料名： Journal of Chemical Physics  (Journal of Chemical Physics)
巻： 145  号： 23  ページ： 234311-234311-5  発行年： 2016年12月21日 
JST資料番号： C0275A  ISSN： 0021-9606  CODEN： JCPSA6  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： サブMeVのC₆₀イオン衝撃による有機高分子ターゲットに放出される二次イオン(SI)の数の確率分布,および分布の分析によるそれらの放出過程のキャラクタリゼーションを報告した。実験データから分布を導出するために開発された解析モデルを用いて,パルス一次イオンビームと組み合わせた飛行時間型SI質量分析計によって得られた実験的SI計数データを分析することによって確率分布を得た。サブMeVエネルギー(0.12-0.54MeV)を用いたC₆₀のイオン衝撃について一連の確率分布関数を調べた。これは関数を決定するのに十分な衝撃当たりのSIを与えることができる。決定した関数に基づいてそれらの複雑かつ未定義のSI放出過程を特徴付けた。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： *フラーレンC60 ,  *有機化合物 ,  ポリメタクリル酸メチル ,  高分子 ,  二次イオン放出 ,  イオン衝突 ,  *重イオンビーム ,  *キャラクタリゼーション ,  *重イオン衝突 ,  確率分布 ,  イオンビーム ,  二次イオン質量分析 ,  質量分析計 ,  100-1000keV ,  関数 ,  パルスイオンビーム ,  飛行時間型質量分析計 ,  確率分布関数

分類 (3件)： 分子衝突・相互作用一般  (BH07010E) ,  イオン放出  (BM09070V) ,  物理化学一般  (CB01010X)

タイトルに関連する用語 (10件)： 放射 ,  イオン ,  統計的分布 ,  分析 ,  サブ ,  C60 ,  イオン衝突 ,  二次イオン放出 ,  過程 ,  キャラクタリゼーション