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J-GLOBAL ID:201702253086283816   整理番号:17A0825202

HfO_2~-不動態化した黒リントランジスタに及ぼす総電離線量効果【Powered by NICT】

Total Ionizing Dose Effects on HfO2-Passivated Black Phosphorus Transistors
著者 (8件):
資料名:
巻: 64  号:ページ: 170-175  発行年: 2017年 
JST資料番号: C0235A  ISSN: 0018-9499  CODEN: IETNAE  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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電気応力と10keV X線照射とアニーリング応答はHfO_2ゲート誘電体を有するHfO_2~-不動態化した黒リン(BP)MOSFETを評価した。素子特性は,少なくとも±1Vまでは一定ゲート電圧ストレス中安定であった。サブしきい値スイングにおける有意な負のしきい値シフト,移動度劣化,と増加は,正および負のバイアス照射中に起こる。HfO_2ゲート誘電体中の正孔捕獲は,これらの不動態化したBP MOSFETにおけるTID応答を支配した。電気パラメータの可逆性と低周波雑音の大きさは照射後のバイアス切替アニーリング中に観察された。低周波雑音の電圧依存性は素子を照射し,アニールした後の雑音に寄与する欠陥のトラップ分布はエネルギーがより均一になることを示唆する。Copyright 2017 The Institute of Electrical and Electronics Engineers, Inc. All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST【Powered by NICT】
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, 【Automatic Indexing@JST】
分類 (2件):
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半導体の放射線による構造と物性の変化  ,  トランジスタ 
タイトルに関連する用語 (4件):
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