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J-GLOBAL ID：201702253304366885   整理番号：17A1761241

吸着基礎シリーズ XAFS-元素選択的局所構造解析-

著者 (1件)： 大久保貴広 (岡山大 理)
資料名： Adsorption News  (Adsorption News)
巻： 31  号： 3  ページ： 15-25  発行年： 2017年10月31日 
JST資料番号： L8218A  ISSN： 0917-9917  CODEN： ADNWEM  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 解説  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 内殻電子の励起を伴うX線吸収分光法(XAS)においてK吸収端の高エネルギー側で見られる吸収強度が大きく波打つ構造が,X線吸収微細構造(XAFS)である。そのうち,吸収端前後50eV付近のXANES,およびより高エネルギー側のEXAFSでは得られる情報や解析方法が異なる。本稿では微細構造出現の基本原理およびスペクトル解析方法の基礎について解説する。XANESスペクトル解析には高度な理論計算を要するが,EXAFSスペクトル解析は,1)吸収端位置決定,2)バックグラウンドの除去と規格化,3)抽出スペクトルのFourier変換,4)後方散乱振幅と位相シフト決定およびカーブフィッティングのルーチンで行うことができる。またXAS実験を放射光施設で行うにあたっての光学系の原理および透過法測定のための試料調製条件を解説する。

シソーラス用語： *XAFS ,  *X線吸収分光法 ,  *XANES ,  *EXAFS ,  微細構造 ,  吸収端 ,  *スペクトル解析 ,  後方散乱 ,  位相シフト ,  放射光施設 ,  スペクトル ,  構造解析
準シソーラス用語： Fourier変換スペクトル ,  K吸収端

分類 (2件)： その他の構造決定法  (BK01070L) ,  分光分析  (CC03012W)

引用文献 (14件)：

• http://www.feffproject.org/index-feffproject.html S. Zabinsky, J. Rehr, A. Ankudinov, R. Albers, and M. Eller, Phys. Rev. B, 52, 2995 (1995).
• http://pfwww.kek.jp/jxs/
• T. Ohkubo, M. Nishi, and Y. Kuroda, J. Phys. Chem. C, 115, 14954 (2011).
• https://www.rigaku.com/ja/products/xrd/software/rex2000 T. Taguchi, T. Ozawa, and Y. Yashiro, Phys. Scr., T115, 205 (2005).
• http://bruceravel.github.io/demeter B. Ravel and M. Newville, J. Synchrotron Rad., 12, 537 (2005).

タイトルに関連する用語 (6件)： 吸着 ,  基礎 ,  XAFS ,  元素 ,  局所構造 ,  解析