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J-GLOBAL ID：201702253696229579   整理番号：17A0791730

Ni(V)/Al多層膜の反応経路に対する低および高加熱速度の影響【Powered by NICT】

Effect of low and high heating rates on reaction path of Ni(V)/Al multilayer

著者 (5件)： Maj Lukasz (Institute of Metallurgy and Materials Science, Polish Academy of Sciences, 25 Reymonta St., 30-059 Krakow, Poland) ,  Morgiel Jerzy (Institute of Metallurgy and Materials Science, Polish Academy of Sciences, 25 Reymonta St., 30-059 Krakow, Poland) ,  Szlezynger Maciej (Institute of Metallurgy and Materials Science, Polish Academy of Sciences, 25 Reymonta St., 30-059 Krakow, Poland) ,  Bala Piotr (AGH University of Science and Technology, Academic Centre for Materials and Nanotechnology, 30 Kawiory St., 30-055 Krakow, Poland) ,  Cios Grzegorz (AGH University of Science and Technology, Academic Centre for Materials and Nanotechnology, 30 Kawiory St., 30-055 Krakow, Poland)
資料名： Materials Chemistry and Physics  (Materials Chemistry and Physics)
巻： 193  ページ： 244-252  発行年： 2017年 
JST資料番号： E0934A  ISSN： 0254-0584  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： Ni(V)/Al NanoFoils~の加熱速度の効果を,透過型電子顕微鏡(TEM)で調べた。Ni(V)/Alを,示差走査熱量測定(DSC),その場TEMまたは電気パルスを用いて加熱に供した。局所化学分析はエネルギー分散型X線分光法(EDS)を用いて行った。相分析をX線回折(XRD)と制限視野電子回折(SAED)を用いて行った。実験は,DSCの遅い加熱は~230°C,~280°Cと~390°Cで分離した発熱効果の発達をもたらし,Al_3Ni,Al_3Ni_2とNiAl相の析出に対応して,それぞれ,すなわちバナジウム無しNi/Al多層膜のようなことを示した。700°Cまでのさらなる加熱は単相NiAl箔を得ることができた。DSC熱処理箔で生成されたNiAl相の平均粒径(g.s.)はNi(V)/Al多層周期(~50 nm)と同等であったが,電気パルスにより開始された反応の場合のg.s.はμmの範囲であった。徐加熱するとバナジウムは元の多層内部界面に平行な帯に偏析する傾向があるが,SHSプロセスにおけるバナジウム相はNiAl相の結晶粒界に析出した。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： 界面 ,  X線回折 ,  透過型電子顕微鏡 ,  化学分析 ,  *多層膜 ,  偏析 ,  制限視野回折 ,  示差走査熱量測定 ,  *多層 ,  *反応経路 ,  結晶粒界 ,  バナジウム ,  X線分光法 ,  *加熱速度
準シソーラス用語： 電気パルス , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (4件)： Ni(V)/Al多層膜 ,  電子顕微鏡(TEM SEM) ,  エネルギー分散分光法(EDS)法 ,  Microstructure

分類 (2件)： 非鉄金属材料  (WE03000D) ,  電気化学反応  (CB07050F)

タイトルに関連する用語 (5件)： Ni ,  Al ,  多層膜 ,  反応経路 ,  加熱速度