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J-GLOBAL ID：201702253886387600   整理番号：17A0445575

大気圧誘電体バリア放電による光触媒アナターゼ二酸化チタン膜の蒸着【Powered by NICT】

Deposition of photocatalytic anatase titanium dioxide films by atmospheric dielectric barrier discharge

著者 (10件)： Chen Qianqian (Faculte des Sciences, Service de Chimie Analytique et de Chimie des Interfaces, Universite Libre de Bruxelles, CP-255, Bld du Triomphe, B-1050 Bruxelles, Belgium) ,  Liu Qirong (Faculte des Sciences, Service de Chimie Analytique et de Chimie des Interfaces, Universite Libre de Bruxelles, CP-255, Bld du Triomphe, B-1050 Bruxelles, Belgium) ,  Liu Qirong (School of Physics and Nuclear Energy Engineering, Beihang University, Beijing, China) ,  Hubert Julie (Faculte des Sciences, Service de Chimie Analytique et de Chimie des Interfaces, Universite Libre de Bruxelles, CP-255, Bld du Triomphe, B-1050 Bruxelles, Belgium) ,  Huang Weide (Faculte des Sciences, Laboratory of Polymer and Soft Matter Dynamics, Universite Libre de Bruxelles, Bld du Triomphe, B-1050 Brussels, Belgium) ,  Baert Kitty (Department of Electrochemical and Surface Engineering (SURF), Vrije Universiteit Brussel, Pleinlaan 2, 1050 Brussel, Belgium) ,  Wallaert Gilles (Faculte des sciences appliquees - Materiaux, 4MAT, Universite Libre de Bruxelles, Avenue F. D. Roosevelt 50, B-1050 Brussels, Belgium) ,  Terryn Herman (Department of Electrochemical and Surface Engineering (SURF), Vrije Universiteit Brussel, Pleinlaan 2, 1050 Brussel, Belgium) ,  Delplancke-Ogletree Marie-Paule (Faculte des sciences appliquees - Materiaux, 4MAT, Universite Libre de Bruxelles, Avenue F. D. Roosevelt 50, B-1050 Brussels, Belgium) ,  Reniers Francois (Faculte des Sciences, Service de Chimie Analytique et de Chimie des Interfaces, Universite Libre de Bruxelles, CP-255, Bld du Triomphe, B-1050 Bruxelles, Belgium)
資料名： Surface & Coatings Technology  (Surface & Coatings Technology)
巻： 310  ページ： 173-179  発行年： 2017年 
JST資料番号： D0205C  ISSN： 0257-8972  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 本研究では,TiO_2膜は室温で大気圧下での誘電体バリア放電(DBD)装置を用いたチタンテトライソプロポキシド(TTIP)から一段階過程で容易に析出した。堆積TiO_2膜の表面形態を走査電子顕微鏡(SEM)によって観察した。堆積TiO_2膜が凝集体のナノメートルサイズの粒子を示した。断面画像はTiO_2膜の蒸着速度は約70nm分~ 1であり,従来の低圧化学蒸着(CVD)(典型的には<4nm分~ 1)よりはるかに速いに達することができることを示した。膜の構造組成と光学的性質を確認するために,すれすれ入射X線回折(GIXRD),Raman分光法,X線光電子分光法(XPS),およびFourier変換赤外分光法(FTIR)を採用した。堆積TiO_2膜はUV照射下でメチレンブルーの分解に良好な光触媒活性を示すは部分的に結晶であった。673Kでのアニーリング後,TiO_2膜はアナターゼ相と均一なナノ粒子により構成されていた。アニーリング(約0.6時間~( 1))後TiO_2膜のメチレンブルーの光触媒分解速度は堆積したままのTiO_2膜(~0.16時間~( 1))のそれよりおよそ4倍大きかった。誤差バーを考慮すると,アニーリング後TiO_2膜の光触媒分解速度は市販アナターゼTiO_2スピンコート膜のそれと同じであった。TiO_2膜は3リサイクル光触媒測定中に優れた光触媒安定性を示した。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： *光触媒 ,  ナノ粒子 ,  *アナターゼ ,  Raman分光法 ,  走査電子顕微鏡 ,  LPCVD ,  X線光電子分光法 ,  *無声放電 ,  焼なまし ,  紫外線照射 ,  窒素複素環化合物 ,  芳香族アミン ,  スルホニウム ,  硫黄複素環化合物 ,  芳香族縮合化合物 ,  第三アミン
準シソーラス用語： 光触媒分解 ,  光触媒活性 ,  蒸着速度 ,  表面形態 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (3件)： TiO_2膜 ,  大気誘電体バリア放電 ,  展望

分類 (2件)： 酸化物薄膜  (BK14050P) ,  光化学一般  (CB08010U)

物質索引 (1件)： メチレンブルー

タイトルに関連する用語 (5件)： 大気圧誘電体バリア放電 ,  光触媒 ,  アナターゼ ,  酸化チタン膜 ,  蒸着