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J-GLOBAL ID：201702253891904791   整理番号：17A1201857

銅表面でのCO₂吸着:van der Waals密度汎関数とTPD研究

CO₂ adsorption on the copper surfaces: van der Waals density functional and TPD studies

著者 (10件)： Muttaqien Fahdzi (Department of Precision Science and Technology, Graduate School of Engineering, Osaka University, 2-1, Yamada-oka, Suita, Osaka 565-0871, Japan) ,  Hamamoto Yuji (Department of Precision Science and Technology, Graduate School of Engineering, Osaka University, 2-1, Yamada-oka, Suita, Osaka 565-0871, Japan) ,  Hamada Ikutaro (Department of Precision Science and Technology, Graduate School of Engineering, Osaka University, 2-1, Yamada-oka, Suita, Osaka 565-0871, Japan) ,  Inagaki Kouji (Department of Precision Science and Technology, Graduate School of Engineering, Osaka University, 2-1, Yamada-oka, Suita, Osaka 565-0871, Japan) ,  Shiozawa Yuichiro (The Institute for Solid State Physics, The University of Tokyo, 5-1-5, Kashiwanoha, Kashiwa, Chiba 277-8581, Japan) ,  Mukai Kozo (The Institute for Solid State Physics, The University of Tokyo, 5-1-5, Kashiwanoha, Kashiwa, Chiba 277-8581, Japan) ,  Koitaya Takanori (The Institute for Solid State Physics, The University of Tokyo, 5-1-5, Kashiwanoha, Kashiwa, Chiba 277-8581, Japan) ,  Yoshimoto Shinya (The Institute for Solid State Physics, The University of Tokyo, 5-1-5, Kashiwanoha, Kashiwa, Chiba 277-8581, Japan) ,  Yoshinobu Jun (The Institute for Solid State Physics, The University of Tokyo, 5-1-5, Kashiwanoha, Kashiwa, Chiba 277-8581, Japan) ,  Morikawa Yoshitada (Department of Precision Science and Technology, Graduate School of Engineering, Osaka University, 2-1, Yamada-oka, Suita, Osaka 565-0871, Japan)
資料名： Journal of Chemical Physics  (Journal of Chemical Physics)
巻： 147  号： 9  ページ： 094702-094702-8  発行年： 2017年09月07日 
JST資料番号： C0275A  ISSN： 0021-9606  CODEN： JCPSA6  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 密度汎関数理論計算ならびに昇温脱離とX線光電子分光法からの平坦な,階段状のおよびキンクした銅表面へのCO₂の吸着を調べた。いくつかの交換相関汎関数が,銅表面上のCO₂吸着を特徴付けると考えられてきた。オリジナルのvdW-DF(vdW-DF1),optB86b-vdW,rev-vdW-DF2,およびPerdew-Burke-Ernzerhof(PBE)のようなvan der Waals密度汎関数(vdW-DFs)分散補正(PBE-D2)を用いた。vdW-DF1およびrev-vdW-DF2の汎関数が吸着エネルギーをわずかに過小評価するのに対し,PBE-D2およびoptB86b-vdWの汎関数はCu(111)上のCO₂の実験的推定とよく一致することを見出した。平らな,階段状の,キンクしたCu表面の計算されたCO₂吸着エネルギーは,20-27kJ/molであり,固体表面上の物理吸着された種の一般的な概念と両立する。この結果は,メタノール合成や高級アルコール製造のようなCu表面上の関連するCO₂活性化のさらなる調査のための適切なvdW汎関数に関する有用な洞察を与える。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： *表面 ,  *密度汎関数法 ,  *二酸化炭素 ,  *吸着 ,  van der Waals力 ,  X線光電子分光法 ,  *昇温脱離 ,  吸着エネルギー ,  *銅 ,  物理吸着 ,  比較
準シソーラス用語： *金属表面 ,  *二酸化炭素吸着

分類 (1件)： 吸着の電子論  (CB12042Y)

タイトルに関連する用語 (7件)： 銅 ,  CO2 ,  吸着 ,  VAN ,  密度汎関数 ,  TPD ,  研究