抄録/ポイント:
抄録/ポイント
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リソグラフィプロセス開発時間の短縮にOPCモデルを正確に効率良くキャリブレートする方法が望まれている。リソグラフィモデルキャリブレーションに使うレイアウトパターンの比較にOPCモデルの光学的強度から導いた光学的類似性の概念を導入した。フルチップに適用するための光学強度計算は基本関数への光システム伝達関数の分解を含んでいる。光学的類似性解析は異なる光学的カーネルからの全体強度への寄与を比較している。もしも異なる光学的カーネルからの相対強度寄与が同じ二つのパターンがあるとすると,二つのパターンは同じととらえる。多くのパターンからキャリブレーション用のパターンを選択する方法を記した。複雑な検証データにフィットするモデル改善のために,異なるキャリブレーションパターンに相対重みを適用する系統的方法も記した。本モデルはフルチップレイアウトでパターンカバレジを確実にするモデルキャリブレーションのためのパターン選択プロセスを改善し,全体的OPCモデル品質を高める。