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J-GLOBAL ID:201702255215609986   整理番号:17A1712732

センシング応用のための標準的フォトリソグラフィープロセスによる多孔質シリコン微小共振器【Powered by NICT】

Porous silicon micro-resonator implemented by standard photolithography process for sensing application
著者 (11件):
資料名:
巻: 72  ページ: 596-601  発行年: 2017年 
JST資料番号: W0468A  ISSN: 0925-3467  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: オランダ (NLD)  言語: 英語 (EN)
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多孔質シリコンリッジ導波路に基づく微小共振器は通常使用されるエバネセントの代わりに体積検出原理に基づいた低コストかつ高感度センサを得るために大規模標準のフォトリソグラフィー工程によって実行される。リッジ導波路の多孔性は,標的分子がコアに浸透であり,伝搬光との直接相互作用により検出することができた。半径100μmの結合長70μmのレーストラック型共振器は,異なる濃度のグルコースの体積検出のための光学的に特性化した。560nm/RIUの高い感度は,ただ一つのマイクロ共振器で達成され,0.7g/Lのグルコース濃度に相当する8.10~ 5RIUの検出限界が得られた。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】
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, 【Automatic Indexing@JST】
分類 (2件):
分類
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光導波路,光ファイバ,繊維光学  ,  固体デバイス製造技術一般 
物質索引 (1件):
物質索引
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