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J-GLOBAL ID:201702255376093515   整理番号:17A1637392

N基板工程を用いた集積回路における寄生垂直NPN開口によるESD故障の解析【Powered by NICT】

Analysis of ESD failure due to parasitic vertical NPN opening in integrated circuits with N-substrate process
著者 (7件):
資料名:
巻: 2017  号: IPFA  ページ: 1-3  発行年: 2017年 
JST資料番号: W2441A  資料種別: 会議録 (C)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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N基板工程における寄生B JTによる静電放電(ESD)破壊について述べた。P基板プロセス[1 3]におけるESD故障のは増大する関心事の話題となっている。一方,予想外のESD故障を引き起こす可能性のある,N基板プロセスはこれまでほとんど注目されていない。データ解析を通して,N基板工程における予想外のESD故障は,寄生垂直NPNに起因している可能性があり,ESD破壊は寄生垂直NPNのBVceoを増加させることで改善できることが示唆された。Copyright 2017 The Institute of Electrical and Electronics Engineers, Inc. All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST【Powered by NICT】
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, 【Automatic Indexing@JST】
分類 (3件):
分類
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固体デバイス計測・試験・信頼性  ,  計算機システム開発  ,  半導体集積回路 

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