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J-GLOBAL ID:201702256629027633   整理番号:17A0791623

マグネトロンスパッタリング系における平衡磁場【Powered by NICT】

Balanced magnetic field in magnetron sputtering systems
著者 (1件):
資料名:
巻: 139  ページ: 109-116  発行年: 2017年 
JST資料番号: E0347A  ISSN: 0042-207X  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: イギリス (GBR)  言語: 英語 (EN)
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磁気系の不平衡の異なる次元と準位を持つ平面軸マグネトロンスパッタリングシステム(MSS)の放電特性を調べた。追加コイルはマグネトロンアンバランス(ターゲット表面における磁場の配置)のレベルを変化させるために使用した。マグネトロンのこれらの構成では,放電電圧,基材イオン電流密度,堆積速度,MSS幾何学的不均衡(K)に対して最小の作動圧力の依存性が得られた。得られたデータに基づいて,すべてのMSSのための,磁気システムの寸法とは無関係に,平衡配置の磁場はK_=1.235 1.27で形成され,放電電圧は最大伝導率を有することを決定した。K_は第二のタイプの不平衡配置の磁場が形成される減少したならば,より大きなK_で第一のタイプの磁場を開発した。マグネトロンのすべての研究した形態に対して最小作動圧力は最小放電電圧と比較して幾何学的不均衡(K_=1.02 1.125)の低レベルで達成でき,マグネトロンの磁気システムの寸法とは無関係であった。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】
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, 【Automatic Indexing@JST】
分類 (3件):
分類
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気体放電  ,  真空技術  ,  薄膜成長技術・装置 
タイトルに関連する用語 (3件):
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