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J-GLOBAL ID：201702256905670558   整理番号：17A0208855

ナノセルロース表層上でのシクロデキストリングラフト化とそのゲスト分子認識能

著者 (5件)： 高橋佳奈 (苫小牧工高専) ,  穴井ひかる (苫小牧工高専) ,  藤田彩華 (苫小牧工高専) ,  甲野裕之 (苫小牧工高専) ,  田島健次 (北大 大学院)
資料名： 高分子学会北海道支部研究発表会講演要旨集
巻： 51st  ページ： P26  発行年： 2017年 
JST資料番号： L2306A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： セルロース ,  *シクロデキストリン ,  *カルボキシメチルセルロース ,  *グラフト化【化学修飾】 ,  *高分子吸着剤 ,  分子認識 ,  包接化合物 ,  ナノセルロース ,  有機塩素化合物 ,  環状エーテル ,  フェノール類

分類 (3件)： 高分子と低分子との反応  (CG03020L) ,  多糖類  (CF10054P) ,  吸着剤  (YB03000W)

物質索引 (3件)： β-シクロデキストリン ,  エピクロロヒドリン ,  ビスフェノールA

タイトルに関連する用語 (3件)： ナノセルロース ,  表層 ,  分子認識