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J-GLOBAL ID：201702258320614189   整理番号：17A1346303

CMOS-MEMSプロセスにおけるBEOL片持梁の曲率【Powered by NICT】

Curvature of BEOL Cantilevers in CMOS-MEMS Processes

著者 (4件)： Valle Juan (Department of Electronic Engineering, Universitat Polite`cnica de Catalunya, Barcelona, Spain) ,  Fernandez Daniel (Nanusens, Cerdanyola del Valle`s, Spain) ,  Madrenas Jordi (Department of Electronic Engineering, Universitat Polite`cnica de Catalunya, Barcelona, Spain) ,  Barrachina Laura (Owlstone, Cambridge, U.K.)
資料名： Journal of Microelectromechanical Systems  (Journal of Microelectromechanical Systems)
巻： 26  号： 4  ページ： 895-909  発行年： 2017年 
JST資料番号： W0357A  ISSN： 1057-7157  CODEN： JMIYET  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 本論文では,放出されたバックエンドオブライン5 μm二個の異なる0.18μm1P6M相補型金属の広いカンチレバー-酸化物-半導体マイクロエレクトロメカニカルシステム過程の曲率特性化の結果を提示した。各鋳物工場から異なるランとロットからの結果を提示した。試験片持梁曲率の光学的測定に基づいて,キャラクタリゼーション手法の方法論と精度についても議論した。積層数の関数として曲率平均と変動性を特に強調した。金属層を結合するタングステン(W)ビアの関数として積層片持梁の曲げ挙動をモデル化するためのAnalythical方程式を提示した。添加では,単一及び積層両片持梁の曲率に及ぼす種々の後処理条件と設計技術の効果を解析した。特に,上回る放出後のある時間依存温度ストレス条件は1桁より大きい曲率のシフトをもたらした。設計によるWは試験片持梁の曲率に強く影響することが分かった。[2016 0293]Copyright 2017 The Institute of Electrical and Electronics Engineers, Inc. All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST【Powered by NICT】

シソーラス用語： *片持梁 ,  モデリング ,  半導体 ,  ロット ,  後処理 ,  キャラクタリゼーション ,  光学的測定 ,  *曲率 ,  鋳造工場 ,  *MEMS ,  ビール ,  酸化物 ,  時間依存性
準シソーラス用語： 温度ストレス ,  *BEOL , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (2件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V) ,  梁,桁  (HD03020H)

タイトルに関連する用語 (6件)： CMOS ,  MEMS ,  プロセス ,  BEOL ,  片持梁 ,  曲率