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J-GLOBAL ID：201702258374738276   整理番号：17A0527171

二重グレースケールデジタルマスクレスパターン描画を使用した曲がったマイクロレンズアレイの製作

Fabrication of a curved microlens array using double gray-scale digital maskless lithography

著者 (2件)： LUO Ningning (Nanchang Hangkong Univ., Nanchang, CHN) ,  ZHANG Zhimin (Nanchang Hangkong Univ., Nanchang, CHN)
資料名： Journal of Micromechanics and Microengineering  (Journal of Micromechanics and Microengineering)
巻： 27  号： 3  ページ： 035015,1-8  発行年： 2017年03月 
JST資料番号： W1424A  ISSN： 0960-1317  CODEN： JMMIEZ  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： ビーム成形,イメージング,カップリングに使用されるマイクロレンズアレイの製作を検討した。曲がったマイクロレンズアレイを製作するための2重グレースケールディジタルマスクレスリソグラフィーについて調べた。2つの独立3次元エネルギープロフィルにターゲット露光ドーズプロフィルを分割し,それぞれの3次元プロフィルを,単一グレーディジタルマスクレスリソグラフィーで実現した。1024μm×768μmの球面に,183のマイクロレンズ(曲率半径613μm,開口径70μm)を有するマイクロレンズアレイを造ることができた。マイクロレンズアレイの倍率は5倍である。

シソーラス用語： *グレースケール ,  *リソグラフィー ,  *アレイ ,  形態 ,  半径 ,  球面
準シソーラス用語： *マスクレスリソグラフィー ,  *マイクロレンズアレイ ,  三次元形状 ,  曲率半径

分類 (2件)： 光デバイス一般  (BD06010L) ,  光学器械要素とその材料  (QF05020K)

タイトルに関連する用語 (3件)： 描画 ,  マイクロレンズアレイ ,  製作