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J-GLOBAL ID：201702258394687972   整理番号：17A0963995

XPSによる~28Si球上の酸化物と炭素質層の厚さ測定【Powered by NICT】

Thickness Measurement of Oxide and Carbonaceous Layers on a ²⁸Si Sphere by XPS

著者 (5件)： Zhang Lulu (National Metrology Institute of Japan/National Institute of Advanced Industrial Science and Technology, Ibaraki, Japan) ,  Kuramoto Naoki (National Metrology Institute of Japan/National Institute of Advanced Industrial Science and Technology, Ibaraki, Japan) ,  Azuma Yasushi (National Metrology Institute of Japan/National Institute of Advanced Industrial Science and Technology, Ibaraki, Japan) ,  Kurokawa Akira (National Metrology Institute of Japan/National Institute of Advanced Industrial Science and Technology, Ibaraki, Japan) ,  Fujii Kenichi (National Metrology Institute of Japan/National Institute of Advanced Industrial Science and Technology, Ibaraki, Japan)
資料名： IEEE Transactions on Instrumentation and Measurement  (IEEE Transactions on Instrumentation and Measurement)
巻： 66  号： 6  ページ： 1297-1303  発行年： 2017年 
JST資料番号： C0232A  ISSN： 0018-9456  CODEN： IEIMAO  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： キログラムの再定義する~28Si濃縮球を用いてアボガドロ定数の高精度決定のために重要である表面層の特性化。本論文では,X線光電子分光法(XPS)により~28Si濃縮球上の酸化物層(OL)と炭素質層(CL)の厚さを測定した。球の回転の機構は,球の表面上の異なる点での厚さを測定するためにXPSシステムに統合した。SI追跡可能X線反射率測定システムを用いて,SiO_2におけるSiの2p電子の減衰長,XPSによるSi球に及ぼす酸化物厚さの計算のための重要なパラメータを決定することであった。OLとCLの平均厚さと不確実性収支を評価した。Copyright 2017 The Institute of Electrical and Electronics Engineers, Inc. All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST【Powered by NICT】

シソーラス用語： *ケイ素 ,  X線光電子分光法 ,  *酸化物 ,  不確実性 ,  *炭素 ,  表層 ,  *厚み測定 ,  キャラクタリゼーション
準シソーラス用語： X線反射率法 ,  酸化物層 ,  高精度 ,  Avogadro定数 , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (3件)： 長さ,面積,断面,体積,容積,角度の計測法・機器  (AD05020O) ,  質量,密度,比重の計測法・機器  (AD05030Z) ,  干渉測定と干渉計  (BD07070G)

タイトルに関連する用語 (4件)： XPS ,  酸化物 ,  炭素質 ,  厚さ測定