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J-GLOBAL ID：201702259362382154   整理番号：17A1604043

FePt薄膜における微細構造とグレイン配向分布に与えるスパッタリング圧力効果

Sputtering pressure effects on microstructure and grain orientation distribution in FePt thin films

著者 (2件)： LI Wei (Univ. Sci. and Technol. Beijing, Beijing, CHN) ,  CHEN Leng (Univ. Sci. and Technol. Beijing, Beijing, CHN)
資料名： Journal of Materials Science. Materials in Electronics  (Journal of Materials Science. Materials in Electronics)
巻： 28  号： 18  ページ： 13579-13586  発行年： 2017年09月 
JST資料番号： W0003A  ISSN： 0957-4522  CODEN： JMTSAS  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 非晶質酸化Si基板へのFePt薄膜制作にマグネトロンスパッタリング法を使い,スパッタリング圧力を制御して微細構造とグレイン配向の進展を調べ微細構造がLl0-FePt薄膜の磁気的性質に与える効果を調べた。スパッタリング圧力が高くなるとRMSとFePt薄膜のアイランドサイズがともに増加する。Ll0-FePt相はスパッタリング圧力0.25Paだけで得られ,低スパッタリング圧力はFePt薄膜で無秩序-秩序転換を促進することを示している。PtFe薄膜は高スパッタリング圧力では低結晶性であり小グレインサイズになっている。局部誤配向マップは低スパッタリング圧力でデポジットされた薄膜は高スパッタリング圧力でデポジットされた薄膜と比べて残留歪みが小さいことを示している。すべてのFePt薄膜でナノ柱状構造が形成されグレイン配向分布はランダムなことが実験結果からわかる。柱状グレイン構造の形状異方性はLl0-FePt薄膜における磁気異方性に寄与している。

シソーラス用語： 鉄合金 ,  白金合金 ,  金属薄膜 ,  *微細構造 ,  *スパッタリング ,  分布 ,  *圧力 ,  磁気的性質 ,  配向 ,  残留歪 ,  構造 ,  被覆 ,  磁気異方性 ,  極点図
準シソーラス用語： ナノ構造コーティング ,  誤配向 ,  *合金薄膜 ,  柱状構造 ,  配向分布

分類 (1件)： 固体デバイス材料  (NC03020K)

タイトルに関連する用語 (6件)： 薄膜 ,  微細構造 ,  グレイン ,  配向分布 ,  スパッタリング ,  圧力効果