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J-GLOBAL ID：201702260521065568   整理番号：17A0591822

反応性マグネトロンスパッタリングにより作成したPtO_x膜に対するスタッパリング出力の影響

Effects of Sputtering Power on PtO_x Films Prepared by Reactive Magnetron Sputtering

著者 (5件)： KANG Wenbo (Northwestern Polytechnical Univ., Xi’an, CHN) ,  ZHU Dongmei (Northwestern Polytechnical Univ., Xi’an, CHN) ,  HUANG Zhibin (Northwestern Polytechnical Univ., Xi’an, CHN) ,  ZHOU Wancheng (Northwestern Polytechnical Univ., Xi’an, CHN) ,  LUO Fa (Northwestern Polytechnical Univ., Xi’an, CHN)
資料名： Journal of Nanoscience and Nanotechnology  (Journal of Nanoscience and Nanotechnology)
巻： 17  号： 6  ページ： 3848-3852  発行年： 2017年06月 
JST資料番号： W1351A  ISSN： 1533-4880  CODEN： JNNOAR  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 酸化白金膜は技術的に重要な物理化学特性を示す。最近,誘電体薄膜に対する電極材料として酸化白金膜が注目されている。膜の電気的,機械的特性は基板に対する接着性能に依存するので,薄膜の接着性能を評価することは重要である。本研究において,ガラス基板上に,スタッパリング出力を変化させながら,反応性マグネトロンスパッタリングにより酸化白金(PtO_x)膜を作成し,組成,マイクロ構造,基板に対する接着性能を評価した。作成した酸化物膜は,スタッパリング出力に依存して,PtOとPtO₂から構成されることがわかった。スタッパリング出力を増すと,蒸着速度が線形に増大し,O/Pt比と抵抗率が減少した。接着強度は,最初は増大し,ついで減少した。膜の構造と表面モルフォロジーには,スタッパリング出力依存性はほとんど見られなかった。

シソーラス用語： *マグネトロンスパッタリング ,  出力 ,  *酸化白金 ,  *電極材料 ,  機械的性質 ,  接着 ,  構造 ,  酸化膜 ,  堆積速度 ,  電気抵抗率 ,  *接着強さ ,  モルフォロジー ,  表面構造 ,  X線光電子分光法 ,  X線回折 ,  走査電子顕微鏡
準シソーラス用語： 反応性マグネトロンスパッタリング ,  ミクロ構造 ,  蒸着速度 ,  *接着強度 ,  表面モルフォロジー

分類 (1件)： 酸化物薄膜  (BK14050P)

タイトルに関連する用語 (1件)： 反応性マグネトロンスパッタリング