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J-GLOBAL ID：201702260696741739   整理番号：17A1717482

品質に関連したプロセスモニタリングのための潜在構造への並列射影【Powered by NICT】

Parallel projection to latent structures for quality-relevant process monitoring

著者 (5件)： Zheng Ying (National Key Laboratory of Science and Technology on Multispectral Information Processing, School of Automation, Huazhong University of Science and Technology, Wuhan, Hubei 430074, China) ,  Liu Ziwei (National Key Laboratory of Science and Technology on Multispectral Information Processing, School of Automation, Huazhong University of Science and Technology, Wuhan, Hubei 430074, China) ,  Yang Weidong (National Key Laboratory of Science and Technology on Multispectral Information Processing, School of Automation, Huazhong University of Science and Technology, Wuhan, Hubei 430074, China) ,  Tao Bo (The State Key Laboratory of Digital Manufacturing Equipment and Technology, School of Mechanical Science and Engineering, Huazhong University of Science and Technology, Wuhan 430074, China) ,  Wang Yanwei (School of Mechanical and Electrical Engineering, Wuhan Institute of Technology, Wuhan 430073, China)
資料名： Journal of the Taiwan Institute of Chemical Engineers  (Journal of the Taiwan Institute of Chemical Engineers)
巻： 80  ページ： 76-84  発行年： 2017年 
JST資料番号： W3224A  ISSN： 1876-1070  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 潜在構造(PLS)への射影は品質関連プロセスモニタリングにおいて広く応用されている。データに基づく方法であるため,データ中のノイズはPLSモデルパラメータ,不適切な空間分割をもたらすに影響するであろう。本論文では,潜在的構造への平行投影(P PLS)と呼ばれるアプローチを提案した。雑音の負の影響を除去するために,PPLSは最初にL_0最小化によるPLSによって得られた元の相関行列を更新する。プロセス入力(すなわち,プロセス変数)は二つの直交部分空間-出力関連と最新の相関行列に特異値分解(SVD)による入力関連部分空間に分割される。プロセス出力(すなわち,品質変数)に関しては,予測できない部分は,主成分分析(PCA)により分解した。PPLSは全入力と出力データ空間を分解する4部分空間,相関部分空間,予測できない出力主部分空間と予測できない出力残差部分空間は出力関連に入力残留部分空間は,入力に関連している。四故障検出指標は,それぞれの部分空間における断層完全モニタリング用に設計されている。PPLSと同時PLSモデル間の関係を詳細に解析した。数値例とTennessee Eastmanプロセス(TEP)を用いて,提案したPPLSアルゴリズムの有効性と優位性を検証した。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： 雑音 ,  直交性 ,  残差 ,  特異値分解 ,  アルゴリズム ,  故障検出 ,  *品質 ,  プロセス変数 ,  *射影 ,  主成分分析
準シソーラス用語： 部分空間 ,  相関行列 ,  空間分割 ,  モデルパラメータ ,  *プロセス監視 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (3件)： プロセスモニタリング ,  潜在構造(PLS)への射影 ,  特異値分解

分類 (1件)： 生体計測  (EL03020C)

タイトルに関連する用語 (2件)： プロセスモニタリング ,  射影