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J-GLOBAL ID：201702260792050973   整理番号：17A0861926

MCFを用いた垂直円管内面マイクロ加工における圧力分布の特性

著者 (5件)： 金谷航葵 (富山高専 本郷キャンパス) ,  木村暢秀 (富山高専 本郷キャンパス) ,  中川航 (富山高専 本郷キャンパス) ,  西田均 (富山高専 本郷キャンパス) ,  山本久嗣 (富山高専 本郷キャンパス ソリューションセ)
資料名： 日本機械学会北陸信越支部総会・講演会講演論文集(CD-ROM)
巻： 54th  ページ： ROMBUNNO.F042  発行年： 2017年03月08日 
JST資料番号： L0204C  ISSN： 2424-2772  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 現在,各種産業で使用されている優れた材料特性を持つ円管材に対する加工法が課題となっている。円管材の加工にはホーニング加工,内面研削があるが,本研究ではそれらに代わる新たな加工法として,磁気混合流体(MCF)を用いた垂直円管に対する精密加工法を提案する。本研究では,MCFを用いた加工法の加工原理を明らかにすることを目的とする。本加工法における円管内面の圧力分布と加工量分布の一連の関係を詳細に調べ,加工原理を明らかにする。(著者抄録)

シソーラス用語： *磁性流体 ,  円管 ,  *マイクロマシニング ,  圧力分布 ,  *研削 ,  長さ ,  加工速度 ,  磁性体 ,  回転数
準シソーラス用語： *MCF【流体】 ,  *マイクロ加工 ,  *内面研削 ,  研削代 ,  磁気クラスタ ,  回転速度

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (4件)： MCF ,  垂直円管 ,  マイクロ加工 ,  圧力分布