文献

J-GLOBAL ID：201702261045186856   整理番号：17A1090603

モデル依拠アルゴリズムを用いたLithoホットスポットの固定

Litho Hotspots Fixing Using Model Based Algorithm

著者 (10件)： ZHANG Meili (Shanghai Huali Microelectronic Corp., Shanghai, CHN) ,  YU Shirui (Shanghai Huali Microelectronic Corp., Shanghai, CHN) ,  MAO Zhibiao (Shanghai Huali Microelectronic Corp., Shanghai, CHN) ,  SHAFEE Marwah (Mentor Graphics Corp., Cairo, EGY) ,  MADKOUR Kareem (Mentor Graphics Corp., Cairo, EGY) ,  ELMANHAWY Wael (Mentor Graphics Corp., OR, USA) ,  KWAN Joe (Mentor Graphics Corp., CA, USA) ,  HU Xinyi (Mentor Graphics Corp., Shanghai, CHN) ,  WAN Qijian (Mentor Graphics Corp., Shanghai, CHN) ,  DU Chunshan (Mentor Graphics Corp., Shanghai, CHN)
資料名： Proceedings of SPIE  (Proceedings of SPIE)
巻： 10148  ページ： 101481B.1-101481B.6  発行年： 2017年 
JST資料番号： D0943A  ISSN： 0277-786X  CODEN： PSISDG  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 技術が進歩するにつれて,IC設計はますます洗練されてきて,設計フローにおける印刷適性の問題を解決することはますます重要かつ困難になっていろ。この論文は,既存のLFD(リソグラフィーを使用し易い設計)-MBH(モデル依拠ヒンティング)フローを拡張して,検証層段階でより複雑なDRC(設計規則検証)ルールを含める方法を示した。この技術をHuali28nm技術で実証し,今日化されたMBHフローは適切なエッジ移動を使用してクリティカルなホットスポットを見出し,固定するために76%以上の成功率を達成した。

シソーラス用語： *リソグラフィー ,  ホットスポット ,  アルゴリズム ,  *回路設計 ,  印刷適性 ,  規則 ,  半導体プロセス ,  *半導体集積回路
準シソーラス用語： DFM ,  LFD ,  設計規則

分類 (1件)： 半導体集積回路  (NC03162T)

タイトルに関連する用語 (3件)： モデル ,  アルゴリズム ,  ホットスポット