シリコンウエハ上の銀ナノ粒子集積SiO<sub>2</sub>層による2層反射防止:ナノ粒子形態およびSiO<sub>2</sub>膜厚の影響

PARASHAR Piyush K; SHARMA R P; KOMARALA Vamsi K

文献

J-GLOBAL ID：201702261320190552 整理番号：17A0522193

シリコンウエハ上の銀ナノ粒子集積SiO₂層による2層反射防止:ナノ粒子形態およびSiO₂膜厚の影響

Double-layer antireflection from silver nanoparticle integrated SiO₂ layer on silicon wafer: effect of nanoparticle morphology and SiO₂ film thickness

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資料名：
巻： 50 号： 3 ページ： 035105,1-12 発行年： 2017年01月25日
JST資料番号： B0092B ISSN： 0022-3727 CODEN： JPAPBE 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：イギリス (GBR) 言語：英語 (EN)

本稿では,異なる厚さのSiO₂被覆シリコン上の多分散Agナノ粒子(NPs)の製作および光学的特性評価について報告した。高周波マグネトロンスパッタリングにより,SiO₂薄膜を堆積し,その上にAg膜を堆積した。次に,窒素雰囲気中でアニーリングすることにより,Ag NPsを形成した。走査型電子顕微鏡により,Ag NPsの形態を調べ,計算ソフトウェアを使用して,Ag NPsの平均サイズ,被覆率,および円形度を含む統計的解析を行った。原子間力顕微鏡により,SiO₂膜の表面粗さおよびAgNPs形態を調べ,紫外-可視-近赤外分光光度計により,SiO₂膜およびAgNPs一体化SiO₂膜の反射率および透過率を測定した。著者等は,シリコンウエハ上の最適化したSiO₂膜厚さおよびAgNPs形態を用いて,300-1200nmのスペクトル領域において,14%の平均反射率を観測し,Ag NPsのオフ共鳴領域(725-1020nm)において,平坦な3.5%の最小反射率を得た。

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光デバイス一般 , 金属薄膜 , 酸化物薄膜

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シリコンウエハ上の銀ナノ粒子集積SiO2層による2層反射防止:ナノ粒子形態およびSiO2膜厚の影響

シリコンウエハ上の銀ナノ粒子集積SiO₂層による2層反射防止:ナノ粒子形態およびSiO₂膜厚の影響