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J-GLOBAL ID：201702261692263879   整理番号：17A0385872

MIM構造中のAl₂O₃とHfO₂薄膜の絶縁破壊の過渡過程の比較研究とそれの材料の熱特性との関連

Comparative study of the breakdown transients of thin Al₂O₃ and HfO₂ films in MIM structures and their connection with the thermal properties of materials

著者 (5件)： Pazos S. (Consejo Nacional de Investigaciones Cientificas y Tecnicas, Godoy Cruz 2290 (C1425FQB), Buenos Aires, Argentina) ,  Aguirre F. (Consejo Nacional de Investigaciones Cientificas y Tecnicas, Godoy Cruz 2290 (C1425FQB), Buenos Aires, Argentina) ,  Miranda E. (Departament d’Enginyeria Electronica, Universitat Autonoma de Barcelona, Bellaterra 08193, Spain) ,  Lombardo S. (Istituto per la Microelettronica e Microsistemi (IMM), Consiglio Nazionale delle Ricerche (CNR), Zona Industriale, Ottava Strada, 5, 95121 Catania, Italy) ,  Palumbo F. (Consejo Nacional de Investigaciones Cientificas y Tecnicas, Godoy Cruz 2290 (C1425FQB), Buenos Aires, Argentina)
資料名： Journal of Applied Physics  (Journal of Applied Physics)
巻： 121  号： 9  ページ： 094102-094102-8  発行年： 2017年03月07日 
JST資料番号： C0266A  ISSN： 0021-8979  CODEN： JAPIAU  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

シソーラス用語： *MIM構造 ,  *酸化アルミニウム ,  *酸化ハフニウム ,  誘電体薄膜 ,  *絶縁破壊 ,  *過渡現象 ,  *熱特性 ,  熱伝導率

分類 (2件)： 誘電体一般  (BM05010F) ,  絶縁材料  (NA04030W)

タイトルに関連する用語 (8件)： MIM構造 ,  Al2O3 ,  HfO2 ,  薄膜 ,  絶縁破壊 ,  過程 ,  研究 ,  熱特性