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J-GLOBAL ID：201702262108375361   整理番号：17A1638469

プラズマ増強化学蒸着を用いた保護SiO-層の作製と評価【Powered by NICT】

Fabrication and evaluation of protective SiO layers using plasma-enhanced chemical vapor deposition

著者 (2件)： Jeong Hyunju (Materials Performance Research Group, POSCO, Incheon, South Korea) ,  Cho Jeadong (Materials Performance Research Group, POSCO, Incheon, South Korea)
資料名： Surface & Coatings Technology  (Surface & Coatings Technology)
巻： 330  ページ： 71-76  発行年： 2017年 
JST資料番号： D0205C  ISSN： 0257-8972  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： SiO_層をプラズマ増強化学蒸着(PECVD)を用いたマグネシウム合金の表面上に作製した透明保護層としてそれらの表面特性を改善した。SiO_層は様々な厚さと基板温度で堆積した膜の厚さに関して基板温度の影響を評価した。断面画像は,薄膜をPECVD中のSiO_層とマグネシウム基板の界面で成長することを明らかにした。元素組成分析は,膜はMg,SiおよびO成分の混合物で構成されていたことを示した。硬さ測定は50と300°Cの基板温度で堆積した層の機械的性質を比較した。塩水噴霧試験は,より高い温度で堆積したSiO_層は保護層として重要な役割を果たしていることを確認した。結果はPECVD中の基板温度がマグネシウム基板の表面上に保護SiO_層の作製に重要な役割を果たすことを示した。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： 界面 ,  薄膜 ,  塩水噴霧試験 ,  表面性状 ,  マグネシウム合金 ,  基板温度 ,  マグネシウム ,  *プラズマCVD ,  画像 ,  機械的性質
準シソーラス用語： 硬さ測定 ,  元素組成 ,  保護層 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (4件)： SiO-層 ,  PECVD ,  耐食性 ,  マグネシウム合金

分類 (5件)： 炭素とその化合物  (YB02060D) ,  その他の無機化合物の薄膜  (BK14060A) ,  酸化物薄膜  (BK14050P) ,  固体デバイス材料  (NC03020K) ,  表面処理  (YH04112X)

タイトルに関連する用語 (5件)： プラズマ増強化学蒸着 ,  SiO ,  層 ,  作製 ,  評価