文献

J-GLOBAL ID：201702262223739447   整理番号：17A1693877

異種金属からなる不動態化ラインの直角コーナー周辺のエレクトロマイグレーション損傷の理論的考察

Theoretical consideration of electromigration damage around a right-angled corner in a passivated line composed of dissimilar metals

著者 (3件)： SAKA Masumi (Tohoku Univ., Sendai, JPN) ,  KIMURA Yasuhiro (Tohoku Univ., Sendai, JPN) ,  ZHAO Xu (Akita Univ., Akita, JPN)
資料名： Microsystem Technologies  (Microsystem Technologies)
巻： 23  号： 10  ページ： 4523-4530  発行年： 2017年10月 
JST資料番号： W2056A  ISSN： 0946-7076  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： ドイツ (DEU)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： エレクトロマイグレーション(Electromigration:EM)は,金属線中の金属原子が高密度で電子の流れによって輸送される原子拡散現象である。EMは,電子の空乏化や蓄積に起因するボイドやヒロックの発生により,電子回路の断線や短絡を引き起こす可能性がある。異種単結晶金属からなるラインにおける不動態化直角コーナー周辺の原子密度分布を理論的に解析した。二種の異種金属が電気的に絶縁されている状況では,最初に絶縁体と平行に配置された材料1の空隙が角に形成されることがわかった。絶縁体と垂直に配置された材料2では,電流密度が角の近くに集中していても,コーナーから遠い界面にヒロックが最初に形成された。材料1および材料2のそれぞれの原子密度分布の分析に基づいて,閾値電流密度,j_thを増加させるための対策が提案された。

シソーラス用語： 異種金属溶接 ,  *不動態皮膜 ,  *エレクトロマイグレーション ,  *拡散 ,  *空孔欠陥 ,  電流密度
準シソーラス用語： 異種金属接合 ,  *不動態化膜 ,  *原子拡散 ,  ボイド【結晶】 ,  ヒロック

分類 (3件)： 固体デバイス計測・試験・信頼性  (NC03040G) ,  金属中の拡散  (BL06022C) ,  金属の格子欠陥  (BK12030F)

タイトルに関連する用語 (8件)： 異種金属 ,  不動態化 ,  直角 ,  コーナー ,  周辺 ,  エレクトロマイグレーション ,  損傷 ,  理論