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J-GLOBAL ID：201702262258215581   整理番号：17A0335235

ナノ多孔質レイヤーバイレイヤー自己集合多層を製造するための「浸透後,次の光化学的架橋」および「架橋ならびに選択的エッチング」戦略の組合せ

Combined “post-infiltration, subsequent photochemical cross-linking” and “cross-linking and selective etching” strategies to fabricate nanoporous layer-by-layer assembled multilayers

著者 (3件)： DU Heng (Beijing Univ. Chemical Technol., Beijing, CHN) ,  ZHANG Yajun (Beijing Univ. Chemical Technol., Beijing, CHN) ,  LV Shanshan (Beijing Univ. Chemical Technol., Beijing, CHN)
資料名： Colloid and Polymer Science  (Colloid and Polymer Science)
巻： 295  号： 2  ページ： 317-325  発行年： 2017年02月 
JST資料番号： C0415A  ISSN： 0303-402X  CODEN： CPMSB  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： ドイツ (DEU)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： レイヤーバイレイヤー(LBL)自己集合技術はバイオセンサ,光記憶装置,分離膜,導電性高分子,エレクトロクロミックなどの多様な機能性材料を製造できる可能性が非常に高く幅広く関心を集めている。ここではポリエチレンイミン(PEI),ポリアリルアミン塩酸塩(PAH),およびポリ(ナトリウム-b-スチレンスルホネート)(PSS)の多層膜を従来のレイヤーバイレイヤー(LBL)自己集合技術を用いて構築した後,4,4′-ジアジド-2,2′-スチルベンジスルホン酸二ナトリウム(DAS)を浸透し,引き続いて紫外線照射によって光化学架橋を行った。PAH/PSSおよびPEI/PSSとの違いを利用することによって,多層膜をPEIで選択的に溶解するための塩基性溶液に浸漬してナノ多孔質構造を生成した。この戦略はナノ多孔質LBL自己集合多層膜を製造するための新規手法を提供することができた。

シソーラス用語： *多孔性 ,  *自己組織化 ,  *薄膜成長 ,  *光化学 ,  *架橋【高分子】 ,  *エッチング ,  ポリエチレンイミン ,  ポリアリルアミン ,  ポリスチレンスルホン酸 ,  紫外線照射
準シソーラス用語： *ナノ多孔質 ,  *レイヤーバイレイヤー自己集合 ,  ポリアリルアミン塩酸塩 ,  PSS【高分子】 ,  DAS ,  塩基性溶液

分類 (1件)： 高分子固体の構造と形態学  (CG02022M)

タイトルに関連する用語 (9件)： ナノ多孔質 ,  レイヤーバイレイヤー自己集合 ,  多層 ,  浸透 ,  化学的架橋 ,  架橋 ,  エッチング ,  戦略 ,  組合せ