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J-GLOBAL ID：201702262449171329   整理番号：17A1627440

透明エレクトロニクスのためのDCスパッタリング法による種々の基板上に堆積したBi_2O_3とNiO超薄膜の光学的性質比較【Powered by NICT】

Comparison the optical properties for Bi₂O₃ and NiO ultrathin films deposited on different substrates by DC sputtering technique for transparent electronics

著者 (2件)： Rasheed M. (MOLTECH-Anjou, Universite d’Angers/UMR CNRS 6200, 2 Bd Lavoisier, 49045, Angers, France) ,  Barille R. (MOLTECH-Anjou, Universite d’Angers/UMR CNRS 6200, 2 Bd Lavoisier, 49045, Angers, France)
資料名： Journal of Alloys and Compounds  (Journal of Alloys and Compounds)
巻： 728  ページ： 1186-1198  発行年： 2017年 
JST資料番号： D0083A  ISSN： 0925-8388  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： ビスマスとニッケル透明酸化物薄膜を室温300でDCスパッタリング法によりガラスおよび柔軟なポリエチレンテレフタレート(PET)基板上に成長させた。Bi_2O_3とNiO膜の構造をX線回折(XRD)分析と走査電子顕微鏡(SEM)により分析した。形状測定は,超薄膜の厚さを測定した。これらの値は,1nm増加と共に200nmから2200nmの範囲における新しい非晶質分散モデルによるスペクトル偏光解析法により確立した。添加では,これらの膜の光学定数を二重ビームUV-Vis-NIR分光計とスペクトル偏光解析を用いて調べ,同じ波長範囲を用いて比較した。は優れた一致を示した。膜の光透過率スペクトルによれば異なる基板上に堆積した各試料の可視領域で高い平均透過率を測定した。さらに,膜の吸収係数と四種類の光学遷移(直接,禁止直接許容,間接禁制間接許容)の光学的エネルギーギャップを決定し,比較して二の異なる技術であった。Bi_2O_3とNiO超薄膜の構造および形態の性質を解析し,比較した。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： 走査電子顕微鏡 ,  吸収係数 ,  *超薄膜 ,  ガラス ,  エネルギーギャップ ,  スペクトル ,  光学定数 ,  偏光解析法 ,  X線回折 ,  透過率 ,  非晶質
準シソーラス用語： 光学遷移 ,  光透過率 ,  酸化物薄膜 ,  *DCスパッタリング , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (5件)： ビスマスとニッケル酸化物膜 ,  DCスパッタリング ,  異なる基質 ,  Spectrophotometer ,  Ellipsometry

分類 (1件)： 酸化物薄膜  (BK14050P)

タイトルに関連する用語 (5件)： エレクトロニクス ,  DCスパッタリング ,  堆積 ,  超薄膜 ,  光学的性質