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J-GLOBAL ID：201702262556002022   整理番号：17A1279027

光触媒NO酸化のための半金属ビスマス膜における非貴金属プラズモン光触媒【Powered by NICT】

Non-noble metal plasmonic photocatalysis in semimetal bismuth films for photocatalytic NO oxidation

著者 (7件)： Zhou Ying (The Center of New Energy Materials and Technology, School of Materials Science and Engineering, Southwest Petroleum University, Chengdu 610500, China) ,  Li Wei ,  Zhang Qian ,  Yan Shuai ,  Cao Yuehan ,  Dong Fan ,  Wang Fang
資料名： Physical Chemistry Chemical Physics  (Physical Chemistry Chemical Physics)
巻： 19  号： 37  ページ： 25610-25616  発行年： 2017年 
JST資料番号： A0271C  ISSN： 1463-9076  CODEN： PPCPFQ  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 最近,プラズモン特性を有する非貴金属は光触媒太陽エネルギー変換におけるそれらの潜在的応用のために大きな注目を集めている。しかし,よく研究されたプラズモン貴金属(主にAuおよびAg),明確な吸収ピークを持つとは対照的に,光吸収の理解と非貴金属の光触媒反応機構はさらに小さかった。本研究では,半金属ビスマス膜をdcマグネトロンスパッタリング法によりフッ素ドープ酸化スズ基板上に堆積した。理論計算とUV-vis吸収スペクトルの両方がプラズモン共鳴ピークの電場増強と位置はBi粒子のサイズと強く相関していることを確認した。スパッタリング電力を調整することにより,初めて分離したBi粒子上で観察された四つの異なる吸収ピーク。さらに,Bi上NO₂へのNOの変換のためのエネルギー障壁はAuナノクラスタのそれよりも低いことが分かった。Bi膜はNOの光触媒酸化のための高活性であった。Bi上の低NO₂脱着エネルギーはBi膜は反応過程の主要な活性サイトであることができ,それらは良好な安定性を持つことを示した。Copyright 2017 Royal Society of Chemistry All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST【Powered by NICT】

シソーラス用語： *光触媒 ,  *一酸化窒素 ,  酸化 ,  半金属 ,  *ビスマス ,  *マグネトロンスパッタリング ,  フッ素 ,  ドーピング ,  紫外可視吸収スペクトル ,  プラズマ共鳴 ,  障壁 ,  遷移状態 ,  活性部位
準シソーラス用語： DCマグネトロンスパッタリング ,  エネルギー障壁 ,  プラズモン共鳴

分類 (1件)： 光化学一般  (CB08010U)

タイトルに関連する用語 (7件)： 光触媒 ,  NO ,  酸化 ,  半金属 ,  ビスマス ,  貴金属 ,  プラズモン