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J-GLOBAL ID：201702263304206519   整理番号：17A0934976

パルスガス注入マグネトロンスパッタリング法を用いて蒸着した非晶質状Al_2O_3,SnO_2とTiO_2薄層の光学的および微細構造的特性化【Powered by NICT】

Optical and microstructural characterization of amorphous-like Al₂O₃, SnO₂ and TiO₂ thin layers deposited using a pulse gas injection magnetron sputtering technique

著者 (3件)： Skowronski L. (Institute of Mathematics and Physics, UTP University of Science and Technology, Kaliskiego 7, Bydgoszcz 85-796, Poland) ,  Szczesny R. (Faculty of Chemistry, Nicolaus Copernicus University, Gagarina 7, Torun 87-100, Poland) ,  Zdunek K. (Faculty of Materials Science, Warsaw University of Technology, Woloska 141, Warsaw 02-507, Poland)
資料名： Thin Solid Films  (Thin Solid Films)
巻： 632  ページ： 112-118  発行年： 2017年 
JST資料番号： B0899A  ISSN： 0040-6090  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 本研究では,薄いAl_2O_3,SnO_2とTiO_2膜(37 58nm)は最近開発されたパルスガス注入マグネトロンスパッタリング法により堆積した。堆積速度は1.7nm/min(Al_2O_3)から24.4nm/min(SnO_2)の範囲であった。原子間力顕微鏡測定は,調製した層は非常に滑らかであることを示した。走査電子顕微鏡とRaman分光法を用いて得られた結果は,それらの非晶質性質を明らかにした。誘電体の光学的性質を分光偏光解析法により検討し,それらのバンドギャップエネルギーの赤方偏移と緻密な膜および/またはバルク材料に対して決定した対応する値と比較して,屈折率の低い値を示した。試験した酸化物の微細構造と光学的性質を直接低圧酸素プラズマ中で行ったパルスガス注入マグネトロンスパッタリングプロセスにおいて特異的増殖条件(反応性ガスのインパルス注入)と関連している。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： Raman分光法 ,  *非晶質 ,  堆積速度 ,  *パルス ,  *薄膜 ,  赤方偏移 ,  原子間力顕微鏡 ,  *マグネトロンスパッタリング ,  屈折率 ,  走査電子顕微鏡 ,  *微細構造
準シソーラス用語： 酸素プラズマ ,  バンドギャップエネルギー ,  分光偏光解析法 ,  *通気 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (5件)： GIMS ,  二酸化チタンの光学定数 ,  酸化アルミニウムの光学定数 ,  酸化すずの光学定数 ,  平滑酸化物層

分類 (2件)： 酸化物薄膜  (BK14050P) ,  光物性一般  (BM08010A)

タイトルに関連する用語 (9件)： パルス ,  ガス注入 ,  マグネトロンスパッタリング ,  蒸着 ,  非晶質状 ,  薄層 ,  光学 ,  微細 ,  構造的特性