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J-GLOBAL ID：201702263840478042   整理番号：17A1194741

ホログラフィック干渉計を用いた磁場中銅電析におけるCu²⁺濃度分布

著者 (4件)： 齊藤貴樹 (北大 大学院) ,  西川慶 (物質・材料研究機構) ,  松島永佳 (北大 大学院) ,  上田幹人 (北大 大学院)
資料名： 電気化学秋季大会講演要旨集(CD-ROM)
巻： 2017  ページ： ROMBUNNO.1K17  発行年： 2017年08月28日 
JST資料番号： X0038B  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： ホログラフィー干渉法 ,  めっき皮膜 ,  電磁流体流 ,  対流 ,  *電着 ,  磁場効果 ,  金属イオン ,  銅化合物 ,  濃度分布 ,  *銅めっき ,  電極 ,  電解液 ,  電解 ,  永久磁石 ,  イオン濃度 ,  銅イオン ,  銅電極 ,  定電流電解
準シソーラス用語： ネオジム磁石

分類 (2件)： 電気化学反応  (CB07050F) ,  電気めっき  (WC08023B)

タイトルに関連する用語 (6件)： ホログラフィック ,  干渉計 ,  磁場 ,  銅 ,  電析 ,  濃度分布