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J-GLOBAL ID:201702264025488636   整理番号:17A1307285

10-6に挑むハイバリア FILE 2) 有機触媒CVD法で作製されたアモルファスSiCN膜のX線反射率,X線光電子分光による膜密度,化学結合の評価

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巻: 45  号: 10  ページ: 76-79  発行年: 2017年10月15日 
JST資料番号: Y0873A  ISSN: 0911-2316  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 解説  発行国: 日本 (JPN)  言語: 日本語 (JA)
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WVTR(Water Vapor Transmission Rate)=10-6のバリア性能に挑む有機触媒CVD(organic Cat-CVD)法で作製されたアモルファスSiCN膜のX線反射率,X線光電子分光による膜密度,化学結合等の評価について述べた。具体的には,まず,X線反射率(XRR)による膜の密度評価法について説明し,この評価法は非破壊で簡便,解析ソフトウェアもよく整備された手法であることを述べた。さらに,X線光電子分光(XPS)による化学結合評価法について説明し,膜中のC,N,Si原子のXPSスペクトルから各原子の化学結合状態,配位数,組成比を評価し,膜の化学結合の精密化を通して,O Cat-CVDで作製されたアモルファスSiCN膜の化学結合の全体像が明らかになることを示唆した。
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分類 (3件):
分類
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包装材料  ,  高分子固体の構造と形態学  ,  有機化合物の薄膜 
引用文献 (3件):

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