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J-GLOBAL ID：201702264721409206   整理番号：17A0132699

透明ポリイミド上に低温型熱的原子層堆積法で堆積したAl₂O₃およびZnO多層薄膜の特性評価

Characterization of Al₂O₃ and ZnO multilayer thin films deposited by low temperature thermal atomic layer deposition on transparent polyimide

著者 (4件)： Song Seung Hak (School of Mechanical Engineering, Korea University, Seoul 136-707, South Korea) ,  Lee Myoung Youb (School of Mechanical Engineering, Korea University, Seoul 136-707, South Korea) ,  Lee Gyeong Beom (School of Mechanical Engineering, Korea University, Seoul 136-707, South Korea) ,  Choi Byoung-Ho (School of Mechanical Engineering, Korea University, Seoul 136-707, South Korea)
資料名： Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films  (Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films)
巻： 35  号： 1  ページ： 01B110-01B110-9  発行年： 2017年01月 
JST資料番号： C0789B  ISSN： 0734-2101  CODEN： JVTAD6  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 最近,有機発光ダイオードを用いた柔軟で伸縮性のあるディスプレイが電子産業における最も注目される技術的話題のひとつとなっている。現状のガラス系材料は柔軟で伸縮性のあるディスプレイに要求される性質とそぐわないため,高分子基板の利用が求められている。しかし,ディスプレイ基板に高分子材料を利用するには,引っかき抵抗性などの表面特性が劣ること,硬度が低いことなどの限界がある。高分子材料には,さらに,低い剛性,低い熱耐性,低い障壁性,高い劣化感度など,ガラス材料に比べて多くの技術的課題がある。低温型原子層堆積法は,高分子基板の機能性被覆として,これらの表面特性に関する課題の良い解決法になりうる。本研究では,2種類の酸化物薄膜(Al₂O₃およびZnO)を,低温型熱的ALD技術を用いて,透明ポリイミド(TPI)膜下地上に堆積した。信頼性のある高品質な薄膜を作製するため,TPI表面に対しO₂プラズマによる前処理を施した。2種類の酸化物薄膜は層毎に堆積するプロセスで多層膜として堆積され,機械的性質への多層膜堆積の影響を調査した。堆積した薄膜の表面形態は光学顕微鏡と走査電子顕微鏡とで観察した。堆積した薄膜の化学的特性はX線光電子分光法で分析した。Al₂O₃およびZnOの多層薄膜の物理的および機械的特性は,ナノインデンテーション法および微小引張り強度試験を用いて調査した。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： *化学蒸着 ,  *酸化アルミニウム ,  *酸化亜鉛 ,  *多層膜 ,  *基板 ,  *ポリイミド ,  高分子膜 ,  プラズマ ,  *プラズマ処理 ,  X線光電子分光法 ,  *ナノインデンテーション ,  *引張強さ
準シソーラス用語： *原子層堆積 ,  高分子基板 ,  低温原子層堆積 ,  酸素プラズマ ,  微小引張り強度

分類 (2件)： 酸化物薄膜  (BK14050P) ,  固体の機械的性質一般  (BL01021C)

タイトルに関連する用語 (8件)： ポリイミド ,  低温 ,  原子層堆積法 ,  堆積 ,  Al2O3 ,  ZnO ,  多層薄膜 ,  特性評価