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J-GLOBAL ID：201702264842226710   整理番号：17A0957925

パターン化強高分子電解質ブラシにおける,削減水平閉込めと安定性に対する効果

Reduced Lateral Confinement and Its Effect on Stability in Patterned Strong Polyelectrolyte Brushes

著者 (6件)： CHEN Wei-Liang (Cornell Univ., New York, USA) ,  MENZEL Matthias (Univ. Freiburg, Freiburg, DEU) ,  WATANABE Tsukasa (Tokyo Metropolitan Univ., Tokyo, JPN) ,  PRUCKER Oswald (Univ. Freiburg, Freiburg, DEU) ,  RUEHE Juergen (Univ. Freiburg, Freiburg, DEU) ,  OBER Christopher K. (Cornell Univ., New York, USA)
資料名： Langmuir  (Langmuir)
巻： 33  号： 13  ページ： 3296-3303  発行年： 2017年04月04日 
JST資料番号： A0231B  ISSN： 0743-7463  CODEN： LANGD5  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： シラン系開始剤を用いた原子移動ラジカル重合(ATRAP)により,強固な電荷を有する高分子電解質ブラシ(PEB)である,ポリ([(2-メタクリロイルオキシ)エチル]トリメチルアンモニウムクロリド)(PMETAC)を合成した。ここで,合成した高分子の膜を形成後にCYTOPを表面被覆して反応性イオンエッチング(RIE)によりパターン化するトップダウン(TD)法,および開始剤を基板に固定化しRIEパターン化後に,ATRAP重合を行うボトムアップ(BU)法の2方法で高精細なPMETACのパターン化グラフト膜を形成した。この水平閉込め構造の被膜は,バルクに優る構造緩和性により,各種pHおよび温度条件で加水分解に対して良好な脱グラフト化耐性を示した。BU法では特に小パターンの場合構造緩和性を示したが,TDでは側面が架橋して硬質となり緩和を阻害した。これに対して架橋を防止する処置で脱グラフト化を同調可能であった。

シソーラス用語： *パターン形成 ,  *高分子電解質 ,  *高分子ブラシ ,  *閉込め ,  原子移動ラジカル重合 ,  重合開始剤 ,  *アンモニウム化合物 ,  *アクリル樹脂 ,  *高分子膜 ,  RIE【エッチング】 ,  グラフト化【化学修飾】 ,  構造緩和 ,  化学合成 ,  赤外スペクトル ,  シラン誘導体 ,  顕微鏡観察 ,  *表面粗さ ,  膜厚 ,  加水分解
準シソーラス用語： *トリメチルアンモニウム化合物 ,  原子間力顕微鏡観察 ,  高分子合成 ,  *表面パターン化

分類 (4件)： 高分子固体の構造と形態学  (CG02022M) ,  固体の表面構造一般  (BK15010E) ,  アクリル樹脂  (YH07110K) ,  有機化合物の薄膜  (BK14070L)

物質索引 (1件)： PMDETA

タイトルに関連する用語 (5件)： パターン化 ,  高分子電解質 ,  ブラシ ,  閉込め ,  安定性