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J-GLOBAL ID：201702265356104057   整理番号：17A0208854

ナノセルロースの表層疎水性改質に関する研究

著者 (5件)： 穴井ひかる (苫小牧工高専) ,  高橋佳奈 (苫小牧工高専) ,  藤田彩華 (苫小牧工高専) ,  甲野裕之 (苫小牧工高専) ,  田島健次 (北大 大学院)
資料名： 高分子学会北海道支部研究発表会講演要旨集
巻： 51st  ページ： P25  発行年： 2017年 
JST資料番号： L2306A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *カルボキシメチルセルロース ,  *セルロース ,  酢酸菌属 ,  *表面改質 ,  *シリル化 ,  疎水性 ,  高分子反応 ,  発酵 ,  トリメチルシリル化 ,  *ナノセルロース ,  微生物 ,  細菌 ,  有機ケイ素化合物

分類 (2件)： 高分子と低分子との反応  (CG03020L) ,  多糖類  (CF10054P)

物質索引 (1件)： トリメチルクロロシラン

タイトルに関連する用語 (5件)： ナノセルロース ,  表層 ,  疎水性 ,  改質 ,  研究