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J-GLOBAL ID：201702265723317533   整理番号：17A0704427

グラフェン酸化物ベースシルセスキオキサン橋かけネットワーク 合成とレオロジー挙動【Powered by NICT】

Graphene oxide-based silsesquioxane-crosslinked networks - synthesis and rheological behavior

著者 (3件)： Namvari Mina (College of Materials Science and Engineering, Shenzhen Key Laboratory of Polymer Science and Technology, Guangdong Research Center for Interfacial Engineering of Functional Materials, Nanshan District Key Lab for Biopolymers and Safety Evaluation, Shenzhen...) ,  Du Lei ,  Stadler Florian J.
資料名： RSC Advances (Web)  (RSC Advances (Web))
巻： 7  号： 35  ページ： 21531-21540  発行年： 2017年 
JST資料番号： U7055A  ISSN： 2046-2069  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： オクタ(3 アジドプロピル)ポリヘドラール オリゴメル酸シルセスキオキサン(POSS-(N_3)8)と高濃度アルキン修飾グラフェン酸化物(GO)間のクリック反応は,GOによる架橋POSSをもたらした。クリック反応中にアスコルビン酸ナトリウムによるGOシートのGOおよび還元にPOSSを導入疎水性と有機分散性材料をもたらした。多面体オリゴマシルセスキオキサン(rGO POSS)ネットワークで架橋した疎水性還元グラフェン酸化物は種々の有機溶媒中で高い溶解度を示した。GO,rGO,rGO POSSはレオロジー研究のためのポリジメチルシロキサン(PDMS)ナノ複合材料を作製するための充填剤として用いた。より大きなGOシートは驚くほど低いレオロジー的パーコレーションしきい値をもたらしたが,有意に小さかったrGO POSS充填系は,ナノ複合材料のグラフェン部分を考慮した場合,GO充填システムとほぼ同じパーコレーションしきい値を示した。,rGO POSS充填剤と同じ低い疎水性と相対的に小さいサイズを持つrGO充填複合材料は有意に高いパーコレーションしきい値,これらの充填剤の部分的再積層に起因することを示した。Copyright 2017 Royal Society of Chemistry All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST【Powered by NICT】

シソーラス用語： 溶解度 ,  アルキン ,  *グラフェン ,  疎水性 ,  *ネットワーク ,  *レオロジー ,  複合材料 ,  分散度 ,  ポリジメチルシロキサン ,  有機溶媒 ,  ナノ複合材料 ,  ラクトン ,  アルコラート ,  第二アルコール ,  ポリオール
準シソーラス用語： パーコレーション閾値 ,  クリック化学 ,  *レオロジー挙動 ,  *酸化グラフェン , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (1件)： 炭素とその化合物  (YB02060D)

物質索引 (1件)： アスコルビン酸ナトリウム

タイトルに関連する用語 (4件)： グラフェン酸化物 ,  シルセスキオキサン ,  橋かけ ,  レオロジー挙動